★공업화학+정리★

목차

1. 황산
2. 질산
3. 염산
4. 인산
5. 탄산나트륨, 소다회
6. 수산화나트륨, 가성소다
7. 암모니아
8. 질소비료
9. 인산비료
10. 칼륨비료
11. 복합비료
12. 전지
13. 반도체
14. 석유화학공업
15. 환경
16. 유기화학, 고분자

본문내용

<황산>
- 접촉식 황산제조법에 사용하는 바나듐 촉매의 특성
촉매수명이 길다.
촉매독 작용이 상당히 적다.
전화율이 좋다.
가격이 비교적 저렴하다.

- 황산 제조공업에서의 바나듐 촉매작용기구
원자가의 변화
화학변화에 의한 중간생성물 생성
흡수작용

- 접촉식 황산제조법
백금, 바나듐 등의 촉매가 이용된다.
촉매 층의 온도는 410~420°C로 유지한다.
주요 공정별로 온도조절이 중요하다.

- 접촉식 황산제조에서 흡수탑에 사용하는 황산의 농도
98.3%

- 연실의 주요 기능
기체의 혼합과 를 산화시키는 공간 제공

- 황산의 제조법 중 연실법에서 Glover탑의 기능
질산함유 황산의 질산 제거기능
연실산의 농축기능
질산의 환원기능

- 연실식 황산제조에서 Gay-Lussac 탑의 주된 기능
질소산화물의 회수

- 증기압이 최저가 되는 황산의 농도
98.3%

- 황산제조에서 연실의 주된 작용
반응열을 발산시킨다.
생성된 산무의 응축을 위한 표면을 부여한다.
glover 탑에서 나오는 가스의 혼합과 를 산화시키기 위하여 시간과 공간을 부여한다.

- 접촉식 황산제조에 있어 사용하는 바나듐 계통의 촉매를 사용할 경우 전화기 내의 온도범위
400~600°C

- 접촉식 황산 제조공정 중 를 로 산화하는 공정에서 가스 생성촉진을 위한 운전조건
낮은 온도를 유지하면서 촉매를 사용한다.

- 황산제조의 원료로 사용되는 것
황화철광, 자류철광, 황동광, 섬아연광, 금속제련폐가스

- 황산제조방법 중 연실법에 있어서 장치의 능률을 높이고 경제적으로 조업하기 위하여 개량된 방법 및 설비
OPL법, Pertersen Tower법, Meyer법

- 접촉식 황산제조 시 원료가스를 충분히 정제하는 이유로 As, Se와 같은 불순물이 있을 경우 바나듐 촉매보다는 백금 촉매에 더욱 두드러지게 나타나는 현상
촉매독

- 황산 중에 들어있는 비소산화물을 제거하는데 이용되는 물질

- 황산 제조시 원료로 나 금속 제련가스를 사용할 때 를 사용하여 제거시키는 불순물에 해당하는 것
As

참고 자료

없음