화학증착(CVD)에 의한 선택적 수소 투과성 실리카막의 제조

서지정보

ㆍ발행기관 : 한국막학회 ㆍ수록지정보 : 멤브레인 / 2권 / 1호
ㆍ저자명 : 남석우, 하흥용, 홍성안

한국어 초록

화학증착법을 사용하여 다공성 Vycor 유리에 선택적 수소 투과성 실리카 막을 제조하였다. 화학증착에는 SiCl4의 가수분해 반응이 이용되었으며, 반응물인 SiCl4와 물을 서로 반대 방향으로 주입하여 막을 제조하는 opposing-reactants film deposition방법과, 반응물을 다공성 유리관의 한쪽으로만 공급하는 one-sided film deposition 방법을 모두 사용하였다. 제조된 실리카 막을 통한 수소의 투과도는 600℃ 이상의 온도에서 0.01-0.25cm3cm2-min-atm의 범위에 있었으며, 수소의 질소에 대한 투과도 비는 1000정도였고, 온도의 증가에 따라 실리카 막을 통한 수소 및 질소의 투과도는 증가하였다. Opposing reactants film deposition 방법으로 제조된 실리카 막은 비교적 안정성은 높으나 수소의 투과도가 낮은 반면, one-sided film deposition 방법을 사용하면 수소의 투과도는 높으나 안정성이 낮은 막이 얻어졌다. 이러한 실리카 막은 고온에서의 기체분리 및 분리막 반응기에 응용하기 위하여는 높은 선택적투과성 및 안정성이 요구되며 막 제조 조건 및 방법이 최적화되어야 함을 알 수 있었다.

영어 초록

Hydrogen-permselective silica membranes were synthesized within tim walls of porous Vycor tubes by chemical vapor depostion of SiO2. Film deposition was carried out using SiCl4 hydrolysis either in the oppm shag reactants or in the one-sided geometry. At temperatures above 600℃ the permeation rate of hydrogen thorough the silica films varied between 0.01 and 025cm3(STP)/cm2-min-atm depending on the reaction geometry and the H2 : N2 permeation ratio was about 1000. Permeation rates of both H2 and N2 increased with increasing temperature. The silica membranes produced by one-sided deposition have higher hydrogen permmeation rates than those produced by the opposing reactants geometry although the membranes formed in an opposing reactants geometry were relatively stable during the heat treatment or after exposure to ambient air. These membranes can be applied to high temperature gas separations or membrane reactors once the film deposition process is optimized to get high permeability as well as good stability.

참고 자료

없음