Poly(dimethylsiloxane)(PDMS) Film의 Cracks을 이용한 라인 패턴 마스크/스탬프
- 최초 등록일
- 2016.04.18
- 최종 저작일
- 2014.11
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목차
1. Introduction
2. Purpose
3. System
4. Fabrication
5. Result & Discussion
6. Line Pattern Stamp for Gold Transferring
7. Conclusion
8. References
본문내용
Introduction
Transistor에 전극을 패터닝하기 위해 Shadow Mask 작업이 필요!
금속 증착용 Shadow mask 제작 방법
√ Lithography : 원하는 미세한 패턴 제작 가능.
But, 고비용, 복잡한 공정
√ Laser : 상대적으로 저비용.
But, 수 ㎛의 미세한 패턴 제작하기 어려움
전극 Transfer 용 PDMS Stamp 제작 방법
√ Molding : Photolithography로 패턴이 형성된 Silicon Mold에 PDMS resin을 부어 경화시킨 후 사용. But, 미세 Pattern 제작이 어렵고 PDMS Stamp 자체에 Defect 유발 가능성
전자 소자에 필수적 요소인 Transistor는 신호의 증폭과 스위칭 역할을 수행할 수 있어 그 이용이 매우 활발하다.이러한 Transistor에는 3개의 전극이 사용되는데, 그것은 Source, Drain, Gate이다.
이러한 전극은 Resolution을 높이기 위해서 혹은 고효율을 위해서 미세한 패턴이 요구된다.
전극의 패턴을 만들기 위해 주로 사용되는 방법은 Shadow Mask를 이용하는 것이다.
참고 자료
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