특허, 실용시안, 의장

소개글

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목차

(특허)
1. 특허제도의 목적
2. 특허의 요건
3. 특허출원 절차
4. 심사
5. 특허권
6. 실시권
7. 특허침해에 대한 구제
(실용실안)
1. 서설
2. 실용신안 제도의 목적
3. 특허법과의 비교
(의장)
1. 의장의 정의
2. 의장의 출원 및 심사처리 절차
3. 의장의 성립요건
4. 의장의 등록요건
5. 의장권
6. 의장법상의 특유제도
7. 의장권의 침해구제

본문내용

1. 특허제도의 목적
특허제도는 "발명을 보호, 장려하고 그 이용을 도모함으로써 기술의 발전을 촉진하여 산업발전에 이바지 함을 목적"으로 한다. 즉, 특허제도는 발명자에게는 특허권이 라는 독점배타적인 재산권을 부여하여 보호하는 한편 그 발명을 공개하게 함으로써 그 발명의 이용을 통하여 산업발전에 기여하고자 한다. 이런 점에서 특허제도를 신기술보호제도, 발명장려제도, 또는 사적독점보장제도이라고 부르기도 한다. 이상의 목적을 달성하기 위하여 아래와 같은 제도들을 두고 있다.
2. 특허의 요건
모든 발명이 다 특허의 대상이 되는 것은 아니며 발명이 특허를 받을 수 있기 위해서는 아래에서 요구하는 몇가지의 요건을 충족하여야 한다. 일반적으로 특허요건은 「주체적요건」,「객체적요건」 및 「절차적요건」으로 구분된다.
가. 주체적 요건
주체적 요건이란 발명자(출원인)가 갖추어야 될 요건이다.
(1) 정당한 발명자일 것
특허출원인은 「발명자」 또는 「그 승계인」이어야 하며 타인의 발명을 모인한 자이어서는 안된다
(2) 권리능력이 있을 것
㉮ 외국인은 우리 법에 의하여 특허를 받을 수 있는 권리능력을 인정받은 자이어야 한다.
㉯ 비법인은 권리능력이 없다.
㉰ 특허청 직원은 재직중 상속 또는 유증의 경우를 제외하고는 특허를 받을 수 없다.

참고 자료

없음