cvd

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소개글

cvd (chemical vapor deposition)과 그와 관련된 ppt 입니다.
화학,화학공학 여러분들에게 도움이 될듯 싶네요

1. 진공
정의
단위
사용

2. Mean Free Path

3. 기체의 흐름
점성유동
분자유동
크누첸의 수

4. 펌프의 종류 및 원리
Oil Rotary vane pump
Oil diffusion pump
Turbo pump

5. Gauge 의 종류 및 원리
Bourdon
Capacitane
Thermocoule
Gauge의 특성비교
6. Chemical Vapor Deposition
CVD의 정의
CVD의 메커니즘
CVD의 장단점
CVD의 결정 요인

7. Atomic Layer Deposition
ALD의 정의
ALD의 장단점

8. Physical vapor deposition
PVD의 정의
Evaporation
Sputtering
Sputtering vs. Evaporation
PVD의 장단점

9. CVD vs PVD vs ALD
특성 비교
Step coverage 비교

본문내용

진공의 효과
부식, 산화 예방
물질의 끓는점을 낮춰 조기 증발 (농축, 금속 처리의 효과) – 진공증착
흡착 패드 등을 이용 물체의 운반에 적합
(본체, 판의 운반)
물체 속의 기체를 제거 타물질을 투입하는데 편리. (가스 충전, 함침 등)
전기적 특성 (반도체, 브라운관, 진공관 등)
직물 염색, 천 피혁 탈수 및 건조 (먼지 제거, 어장, 산소 투입 등)

진공의 특성
진공에서는 chamber라는 부피공간 내 공기 및 기체가 제거, 외부의 공간과 분리

진공펌프를 이용해 chamber내의 공기를 제거 또는 응축, 흡착 또는 형태를 변형

고진공일수록 chamber 내의 공기나 기체들이 적게 존재함

Mean free path(평균자유행로)
한 입자가 다른 입자와 충돌하기 전까지 이동한 평균거리
chamber내의 압력이 낮을수록
기체입자의 존재 확률 줄고,
기체입자 사이의 공간 증가
입자끼리의 충돌 횟수는 줄어들기 때문에 MFP는 길어진다

참고 자료

없음

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