디스플레이 물성및재료 반도체 제조공정 디스플레이 제조공정1

소개글

전기전자 디스플레이 물성및재료 반도체 제조공정 디스플레이 제조공정

목차

1. Diffusion의 정의 및 종류
1)산화 공정
2)확산 공정
3)L P - C V D 공정
4)EPI 공정

2. 평가 방법

본문내용

*diffusion의 정의 및 종류
Diffusion(확산)
한 물질이 어떤 다른 물질 속으로 퍼져나가는현상.
(반도체 공정에서는 기체, 액체가 아닌 고체에서
일어남)

Diffusion 공정 종류:
산화 공정, 확산 공정, LP-CVD, EPI 공정

산화
Si wafer의 표면을 산소 또는 수증기와 반응시켜
실리콘 산화막(SiO2)을 형성.
장점
산화막의 두께 조절이 용이.
실리콘과 산화막(SiO2)사이의 계면 특성이 우수.
종류
건식산화(Dry Oxidation)
습식 산화(Wet Oxidation)

참고 자료

없음