Photo- resist Patterning 기술의 공정과 분해능

소개글

포토레지스트와 포토리소그래피의 정의를 설명하였고, 공정용어및 순서, 반도체 공정 사진, Positive resist & Negative Resist 등을 조사한 자료입니다.

목차

1. Photo-resist & (Photo)lithography 정의
2. Photolithography 공정 (용어)
3. Photolithography (순서)
4. Positive Resist & Negative Resist
5. 반도체 공정(사진)

본문내용

1-1. Photo-resist란?
빛이나 방사선을 쏘면 그 부분만 구조변화를 일으켜, 용매에 녹지 않거나(NegativeType), 그 반대로 쉽게 녹는(PositiveType)으로 변하는 고분자이다.
=>리소그래피공정에서 사용되는 물질.

1-2. 리소그래피(Lithography)
리소그래피라는 단어자체가 ‘석판인쇄’라는 뜻.
반도체 공정에서 회로를 원하는 형태로 깍아 내는 것을 리소그래피라고 하는 것이다.

1-3. 포토리소그래피(Photolithography)
Photolithography 공정은 어떤 특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용하여, 얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한 pattern을 형성시키는 공정이다

참고 자료

없음