열증착

소개글

Thermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조를 통하여 박막재료 제조 공정의 이해를 돕는다

목차

1.실험목적
2.실험이론
2-1) 진공증착
2-2) PVD 와 CVD의 차이점
3.실험장치 및 시약조사
4. 실험방법
5.참고문헌

본문내용

.실험이론
박막이란, 두께가 단원자층에 상당하는 0.1nm에서 10μm정도의 두께를 가진 기판 상에 만들어진 고체 막으로 정의된다. 이와 같은 박막은 형성과정이 보통의 덩어리재료(Bulk)와 다르기 때문에, 구조차이에 의한 막 고유의 특성을 보유하게 되고 두께가 얇아짐에 따른 형상효과를 나타내게 된다. 즉, 기존의 Bulk와는 전혀 새로운 전기적, 자기적 및 광학적 효과를 나타내며, 이런 현상을 이용하여 각종 전기소자, 집적회로, 광학부품 등 여러 응용분야에 이용되고 있다.

2-1) 진공증착
증착 증착된 박막을 얻는 방법은 1857년에 Faraday가 처음으로 시행하였으며 그는 불활성 분위기에서 금속 wire를 폭발시키는 방법으로 박막을 형성하였다. 그 이후로 1887년 Nahrwold개 백금 wire를 Joule heating시키는 방법으로 박막을 얻었으며, 1888년 Kundt가 굴절률 측정방법으로 금속 박막을 얻고자 증발 증착법을 사용하였다. 박막의 형성 원리는 비교적 간단한데 진공중에서 금속, 화합물 또는 합금을 가열하여 증발시킴으로서 evaporated도니 입자들이 기판의 표면에 박막을 형성시키는 방법이다.

PVD 와 CVD의 차이점
기상증착법 (Vapor Deposition)들은 아시다시피 크게 두 가지로 분류된다.
하나는 PVD (Physical Vapor Deposition)이고 다른 하나는 CVD (Chemical
Vapor Deposition)이다. 이 둘의 차이는 증착시키려는 물질이 기판으로 기체
상태에서 고체상태로 변태될 때 어떤 과정을 거치느냐 이다. 공정상의 뚜렷한 차이점은 PVD는 진공 환경을 요구한다는 것이고 반면에 CVD는 수십 ~수백 torr 내지는 상압의 환경에서도 충분히 가능하다. 다만 CVD는 PVD보다 일반적으로 훨씬 고온의 환경을 요구한다.

참고 자료

- 네이버 백과사전
- http://www.seongwooinst.com/data/thin-film-intro.pdf
- http://blog.naver.com/four24rang?Redirect=Log&logNo=150007354867
- http://www.kps.or.kr/storage/webzine_uploadfiles/416_article.pdf