유기발광 디스플레이 실험

소개글

유기발광 디스플레이 실험

목차

1. UV- vis Spectrophotometer
2. Photoluminescence spectrometer
3. 고분자 박막 제조
4. 박막의 UV측정 및 형광·인광 PL측정
5. NMR 측정 및 분석
6. FT-IR 측정 및 분석
7. 분자 Simulation
8. Energy transfer
9. 진공증착법을 이용한 박막제조
10. Contact angle 측정
11. Sheet resistance, Conductivity측정
12. AFM측정
13. Cyclic voltammetry
14. 무기·유기 LED의 I-V-L 특성평가
15. PLED 제작
16. ITO패턴 제작 (Photolithography)

본문내용

▣ UV-visible spectrophotometer
◈ 실험목적
유기물질이 가지고 있는 HOMO, LUMO, Band gap의 개념을 이해하고 Ultra violet spectroscopy측정 방법을 알아본다. 용액 상태에서 저분자 물질인 Antracene, Alq3 Rubrene의 UV 측정(흡광도)를 측정하고 band gap을 측정하는 방법을 익힌다.
◈ 기구 및 재료
UV/VIS Spectrophotometer 전자저울
magnetic bar Stirrer
Alq3, Rubrene Vial
Antracene Solvent
고분자 Blue 물질 마이크로 피펫
■ 원리
▶ HOMO, LUMO, Band gap의 정의
● HOMO (Highest Occupied Molecular Orbital)
분자 오비탈 다이아그램을 그리면, 낮은 에너지 준위부터 전자를 채우게 됩니다. 이 때 전자가 찬 오비탈 중에서 가장 에너지준위가 높은 오비탈을 말하며 원자핵으로부터 속박되지만 가장 작고 전자가 가장 움직이기 쉬운 곳을 ‘HOMO’라고 부른다. 이것은 최고 점유궤도라는 의미를 나타낸다. 이것은 반도체의 가전자대에 해당한다.
● LUMO (Lowest Unoccupied Molecular Orbital)
전자가 차지 않은 오비탈 중에서, 가장 에너지 준위가 가장 낮은 오비탈을 말하며 이것에 먼저 전자가 들어간다. 이것은 반도체의 전도대에



▣ ITO pattern 제작 (Photolithigraphy)
◈ 실험 목적
패턴을 형성하는 여러 공정의 종류를 알아보고, 그 중 포토리소그래피 공정으로
ITO패턴을 제작하여 본다
◈ 기기 및 재료
- ITO가 증착된 glass
- Photo Resistance
- Developer
- Stripper
- ITO etchant
- Shadow mask
- 노광기
■ 원리
● Photoresist coating
PR coating이라 함은 분사된(dispense) liquid(액상) PR을 높은 회전수로 회전시켜 균일한 얇은 막의 형태로 기판 전체를 도포시킨 후 일정온도에서 baking하여 PR의 용제(solvent)를 기화·제거시켜 단단하게 만드는 과정을 말한다. PR(photo resist)이란 특정 파장대의 빛을 받으면(노광:photo exposure) 반응을 하는 일종의 감광 고분자 화합물(photosensitive polymer)이다. 이때 반응이라 함은 PR의 일정 부분이 노광 되었을 때 노광된 부분의 polymer 사슬이 끊어지거나 혹은 더 강하게 결합하는 것을 의미한다.
● Photo resist
Photo Resist는 화상형성용의 사진식각(Photoetching)에 사용되는 감광성 고분자를 일컫는 것으로 Micron이나 Nano size의 미세형상 구현이 요구되는 재료로서, 반도체, LCD, 인쇄 분야, 인쇄 회로기판분야 및 정밀 가공 금속 제품이나 유리 제품의 제조 등 산업 전반에 널리 이용된다. 반도체 또는 LCD 제조공정에서의 Photo Resist는 빛에너지에 의해 분해 또는 가교 등이 일어나 그 용해 특성이 변화하는 물질로 Photo Resist 위에 원하는 Pattern이 그려져 빛을 선택적으로 투과시킬 수 있는 Mask를 놓고 노광(Exposure

참고 자료

없음