포토레지스트

*세*

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최초 등록일: 2010.06.19
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소개글

감광성 고분자 - 포토레지스트에 관한 PPT

본문내용

1. Photoresist?
정의
광 및 방사선 에너지의 작용으로 물리적·화학적 변화가 일어나는
고분자 조성물 또는 광조사에 의하여 고분자 물질로 형성되는
화합물의 조성물계

장점
미세정밀가공이 가능
종래의 열에 의한 작업(열반응)보다 상당한 에너지 및 원료의 절감
작은 설치 공간에서 작업을 깨끗이 신속·정확하게 수행
표면 코팅에 이용되는 광경화 수지 - 용제 사용 없이 액체 단량체를 사용
∴ 공해 발생 문제가 감소, 제조원가 감소( ∵ 원료손실이 없으므로)

2. Photoresist의 분류
성분별 분류
1. One component :
하나의 성분이 감광작용 및 마스크 (Mask) 작용

2. Two component :
- 감광제 (Sensitizer) : 감광 작용
다중체 (Polymer) : 이미지 작용

3. Three component :
- 감광제 (Sensitizer) : Photo acid generator 강산 발생
- 다중체 (Polymer) : 이미지 작용
- 촉매 : 반응 활성화

참고 자료

특집 "포토레지스트 재료-화상형성용 유기 감광재", 한국화상학회지, 4, 45 (1998).
감광성 고분자, Yi-Koan Hong Metallurgy and Materials Engineering,
Hanyang Univ.
http://www.reseat.re.kr
- 초미세 가공용 포토레지스트 재료의 진보
- 반도체 소재산업의 현황

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