[박막] 박막(thin film)

소개글

박막증착에 관련된 개괄적인 정보가 들어있습니다.
자세하고 깊은 내용은 다루지 않았구요, 학부생들이
박막에 관한 실험을 하기전 예비레포트 쓰는 정도의
내용으로 되어 있습니다.
그럼~

목차

1. CVD (Chemical Vapor Deposition)
1) CVD의 원리
2) CVD의 특징
3) 반응장치
① 가열방법
② 반응실(reactor)의 구조
③ 가스 조정시스템
④ 배기가스처리 시스템
4) CVD의 종류
① PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)
② Photo-CVD(Photo-Assisted Chemical Vapor Deposition)
③ MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)

2. PVD(physical vapor deposition)
1) 진공증착법
2) 음극스퍼터링(cathode sputtering)
① 직류스퍼터링(DC sputtering)
② 고주파 스퍼터링(RF sputtering)
③ 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)
④ Bias Sputtering
※sputtered박막의 구조
3) 이온도금(ion plating)

본문내용

박막이란 수 ㎛(micrometer) 이내의 얇은 막을 지칭하는데, 이렇게 얇게 만든 막을 이용하여 반도체나 최첨단 전자재료를 제작할 수 있기 때문에 그 중요성과 실용성이 크다. 박막증착은 물리적 제조방법에 따라 CVD(chemical vapor deposition)와 PVD(physical vapor deposition)로 크게 분류할 수 있다.
......
CVD 공정은 여러가지 방법으로 분류될 수 있는데, 사용되는 반응의 활성화 에너지원에 따라 thermally-activated CVD, plasma-enhanced CVD, photochemical CVD, laser-induced CVD, and electron-beam assisted CVD로 분류될 수 있다.
......진공증착법은 진공 중에서 박막을 만들려는 물질을 가열하여 증발시켜 그 증기를 적당한 면 위에 부착시키는 방법으로서 증발의 과정이 열교환 과정이다. 진공 중에서 물질을 가열하는 방법에는 저항가열법, 전자충격법 등이 있다.
저항가열법은 고융점의 금속(W, Mo, Ta 등)의 박 또는 선을 적당한 형상으로 만든 증발원에 증착재료를 놓고, 전류를 흘려 직접가열하여 물질을 증발시키는 방법과 고융점 산화물인 Al2O3와 BeO와 같은 도가니 주변에 열선을 감아서 간접적으로 가열하는 방식이 있다.

참고 자료

없음