Lithography, 잉크젯프린팅, polyol processing, brookfield 의 원리
- 최초 등록일
- 2010.10.07
- 최종 저작일
- 2010.10
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소개글
재료공학실험 예비보고서
목차
1. 반도체 제조 공정 중 기존의 lithograph 공정과 잉크젯 프린팅 공정의 차이에 대해 조사하고 잉크젯 프린팅 공정을 적용하였을 경우 얻어지는 장점을 알아보자
1) Lithography 공정
2) 잉크젯 프린팅 공정
3) 잉크젯 프린팅 공정의 장점
2. 은 나노 합성 과정중 polyol processing에 대하여 알아보자.
3. 점도 측정에 사용되는 brookfield의 원리에 대하여 알아보자.
1) 점도
2) Brookfield 점도계
3) 점도측정을 할 때 고려해야할 사항 (유체 특성에 영향을 주는 요인)
본문내용
1) Lithography 공정
반도체 제조공정에서 많이 쓰이는 lithograph(노광) 기술은 일반적으로 광에 의하여 마스크 상의 기하학적 모형을 반도체 웨이퍼의 표면에 도포되어 있는 얇은 감광재료에 옮겨 놓은 것을 말한다. 다시 말하면, 집적 회로를 제작할 때 만들고자 하는 패턴을 실리콘기판에 화학 처리나 확산 처리하는 기술을 말한다. Lithography 공정은 E-Beam Lithography, UV Lithography, Soft Nano Imprint Lithography, Photo Lithography, Soft Lithography 등으로 다양하게 나눠진다.
참고 자료
잉크젯 프린팅기술의 현황과 전개
(한국정보디스플레이학회지.제5권 3호 ,2004),
안동훈, 권효택 (포톤데이즈㈜ dhahn@photondays.com)
직접인쇄회로기술 동향
김 재 현*, 이 창 용*, 김 종 렬**
Technical Trends of Direct Printing Electronics
Jae-Hyun Kim*, Chang-Yong Lee*, Jong-Ryoul Kim**
*Department of Material Science & Engineering, Hanyang University
**Corresponding author: jina@hanyang.ac.kr, Department of Material Science & Engineering, Hanyang University
(Received May 20, 2008)
플라스틱-액상, 현탁상 또는 분산상의 수지-브룩필드법에 의한 겉보기 점도의 측정, 한국 표준 협회