유도결합플라즈마 발광광도법

소개글

유도결합플라즈마 발광광도법

목차

1장유도결합플라즈마발광광도법


1.원리 및 적용 범위

2,개요

3.장치

3.1시료도입부

3.2고주파 전원부

3.3광원부

3.4분광부 및 측광부

3.5연산처리부

3.6ICP 발광분석 장치의 설비조건

3.7내부 삽입형 ICP-Seputtering 장치

4.장치의 조작법

4.1플라즈마가스의 준비

4.2설정조건

4.3조작순서

5.시료의 분석

5.1정성분석

5.2정량분석

5.3검량선의 교정

5.4바탕선의 보정

5.5기존 ICP방법의 문제점


2장 ICP를 이용한 중금속(GBC XMP)


1.기기 원리 및 적용범위

2.플라즈마 점화

3.setting

4.분석

5.ICP 장비를 끌때

6.Hydride Genertor을 이용한 분석

7.아르곤 가스를 교환한 경우


3장 ICP를 이용한 TiN,(Ti, Al)N, (Ti, Cr)N 박막의 제조

1유도결합플라즈마를 이용한 TiN 박막의 미세 조직 제어

2ICP Sputting으로 제조한 TiNvl막의 경로와 접착력

3ICP Sputtering으로 제조한 TiN 피막의 마모 특성 비교
< 참 고 >

본문내용

1장 유도결합플라즈마 발광광도법
1. 원리 및 적용범위
시료를 고주파유도코일에 의하여 형성된 플라즈마에 도입하여 6,000～8,000에서 여기된 원자가 바닥상태로 이동할 때 방출하는 발광선 및 발광강도를 측정하여 원소의 정성 및 정량분석에 이용하는 방법이다.
석영 등의 유전체 반응기 외부에 코일을 감아 전기장을 변화시키면 코일의 내부에 유도자장이 발생하게 되고 그에 따른 2차 유도전류가 반응기 내부에 형성되는 것을 이용하여 발생시키는 고밀도 플라즈마이다.

2.개 요

ICP는 알곤가스를 플라즈마 가스로 사용하여 수정발진식 고주파발생기로부터 발생된 주파수 27.13MHZ 영역에서 유도코일에 의하여 플라즈마를 발생시킨다. ICP의 토오치(Torch)는 3중으로 된 석영관이 이용되며 제일 안쪽으로는 시료가 운반가스(알곤, 0.4～2ℓ/min)와 함께 흐르며, 가운데 관으로는 보조가스(알곤, 플라즈마가스 0.5～2ℓ/min), 제일 바깥쪽관에는 냉각가스(알곤, 10～20ℓ/ min)가 도입되는데 토오치의 상단부분에는 물을 순환시켜 냉각시키는 유도코일이 잠겨 있다. 이 유도코일을 통하여 고주파를 가해주면 고주파가
이하생략

참고 자료

없음