ITO

소개글

ITO에 관한 레포트

목차

ITO의 정의
ITO glass
ITO glass의 장점
ITO glass의 생산공정
ITO glass의 코팅
ITO glass의 이용분야
ITO glass의 대체물질
참고문헌

본문내용

◆ ITO Glass 코팅
Sputtering 투명전도체 박막을 제작하는 가장 일반적인 방법으로, 진공 중에서 방전에 의해 plasma를 발생시키고, 이 plasma중의 양이온이 부전극의 Target 표면에 가속 충격되어 Target 구성원소를 Sputter시킴과 동시에 Sputter원자는 기판상에 도달하여 박막을 형성하는 원리를 이용한 방법이다. 방전 가스는 불활성 기체인 Ar가스를 사용하고 방전용 전력원으로는 직류 전원 또는 고주파 전원을 사용한다,

1) DC sputtering
DC Sputtering은 직류 전원을 이용한 Sputtering방법으로, LCD제조에 있어서 아주 중요한 공정 중의 하나이다. DC Sputtering시에는 전자의 이동을 용이하게 하기 위해서 진공상태를 만들어줘야 한다.
장점으로는 ① 구조가 간단하며, 가장 표준적인 Sputter장치이다. ② 성막속도가 여러 종류의 금속에 대해 거의 일정하다. ③ 전류량과 박막두께가 거의 정비례 하므로 조절이 쉽다. ④ 박막의 균일도가 크다. ⑤ 높은 에너지의 공정이므로 밀착강도가 높다는 점을 들 수 있고, 단점으로는 ① Target의 재료가 금속에 한정된다. ② 높은 Ar압력이 필요하다. ③ 기판이 과열되기 쉽다는 점을 들 수 있다. 이와 같은 단점은 diode 대신 tride형으로 하여 plasma형성용 전자방출 전극을 이용. 전자와 기체의 충돌을 촉진시킴으로써 낮은 Ar압력하에 Sputter할 수 있게 하거나, magnetron방식을 사용하여 해결할 수 있다.

참고 자료

http://www.ncs-k.co.kr/bbs/board.php?bo_table=board&wr_id=5
http://www.etimes.net/service/etimes_2007/ShellView.asp?LinkID=6001&ArticleID=2010062513162201642
http://silfine.com/bbs/bbs_rnd/view.asp?tn=bbs_rnd&idx=11&re_pkeyword