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나노화학

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본문내용

Pattern Formation by Photochemistry
목적
광반응(photoreaction)에 의한 patterning에 대한 이해.
Cyanotype에 의한 blue print의 실험적 획득.
원리
1. photolithography
극히 미세하고 복잡한 전자회로를 패턴의 마스크를 이용하여 반도체 기판에 패턴을 그려 집적회로를 만드는 기술. 사진 기술을 응용한 것이어서 포토리소그래피라고도 한다. 감광성 수지를 도포한 기판에 포토마스크(원판)를 통해 자외선을 조사하면 포토마스크에 새겨진 IC의 패턴이 포토레지스트에 전사된다. 1m보다 미세한 패턴을 형성하려면 자외선으로는 한계가 있어 X선이나 전자빔의 응용도 연구되고 있다. 모든 공정 step이 각종 particle에 대해 매우 취약하고, 이로 인한 pattern 불량이 전체 panel의 불량을 유발하므로, 청정한 환경과 재료 및 장비의 관리가 보다 중요한 공정이며, 향후 TFT 제작공정의 고정밀, 대면적화에 따라서 그 중요성이 더욱 커지는 공정이다.
실리콘 기판 위에 화학물질의 얇은 마스킹 필름을 입힌 후 다시 그 위에 photoresist를 입힌다. 그 위에 마스크를 덮은 후에 UV를 쏘여주면 마스크의 빈 곳의 photoresist가 날아가고 밑의 마스킹 필름이 노출되게 된다. 그 상태에서 etchant에 넣고 etching을 시키면 노출된 마스킹 필름이 깎이게 되어 패턴이 복제 되는 것이다.

참고 자료

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