FIB (Focused Ion Beam) 자료조사

소개글

FIB(Focused Ion Beam)을 알고자 하는 초보 사용자를 위한 기본지식.
2012년 현재 생산되는 Maker FIB 스팩비교.

목차

FIB(Focus Ion Beam)의 개요
- 광원 (빛의 발생원)
- 광학계(光學系)
- Focus Ion Beam의 조사(照射)

현재 시판 중인 FIB관련 자료
FIB의 응용예

본문내용

FIB (Focus Ion Beam) 의 개요
Focus Ion Beam장치는 집속빔을 시료 표면에 주사해서 발생되는 2차
이온등을 검출한 현미경상을 관찰 또는 시료 표면을 가공하는 장치
입니다.
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검출기
AD변환기
화상Data 메모리
변광기

광원 (빛의 발생원)
Focus Ion Beam장치에서는 Ion Gun / Ion Source라고 부르는 것이 일반적
입니다. 예리한 금속의 끝부분과 인출전극 사이에 전계(Electonic Field)를
걸어 전하를 인출시킨 후 가속전압으로 가속시켜 충돌시킵니다.
Ion beam의 Ion Source경우에는 액체금속Gallium (융점 29.75℃, 69.723(1) g/mol)을 사용합니다.
가속전압은 +5kV ~ +30kV정도를 일반적으로 사용하는데, 가속전압이 높을 수록 시료에
Damage가 커지므로 최적인 값인 +30kV을 사용하는것이 일반적입니다.
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Ga Ion Beam
Gas Nozzle (Assist Gas)
2차 전자 검출기
Secondary Electron Detector
Sample Target
주사 (Focusd)

참고 자료

FIB 제조사 Home Page
http://www.siint.com/en/
http://www.fei.com/
기술자료 참조
http://www.siint.com/en/products/fib/tec_descriptions/descriptions_e.html