25장 고체 표면에서의 과정

소개글

요약 자료

목차

1. 흡착의 정도

2. 흡착 등온식

3. 불균일 촉매작용

본문내용

1. 흡착의 정도
(1) 덮임율과 흡착속도
① 덮임율 ?은 점유된 자리수를 이용 가능한 자리수로 나눈 비를 말한다.
? ??흡착이 가능한 전체 자리수
흡착된 자리수
② 유기 상태의 기체와 흡착된 분자 사이에는 동적 평형이 이루어지며, 표면 덮임율은 계의 압력에 의존한다.
③ 흡착 속도: 표면 덮임율의 시간 변화율 ?d
d? 를 말한다.
2. 흡착 등온식
(1) Langmuir 등온식
① 흡착 등온식의 가정
·흡착은 단분자층 덮임율 이상으로 일어날 수 없다.
·모든 흡착 자리는 동등하고 표면은 균일하다.
·한 주어진 흡착 자리에 흡착질 분자가 흡착될 수 있는 능력은 그 인접 흡착 자리의 흡착 상태에 전혀 무관하다. 즉 흡착질 분자들 사이에
상호작용이 없다.
② Langmuir 등온식
·흡·탈착의 동적 평형: A?g? ? M?surface?


??? ? AM?surface?
·흡착에 의한 표면 덮임율의 변화 속도는 A의 부분압력 와 빈 흡착 자리수에 비례할 것이며, 빈 자릿수는 표면상의 전체 흡착 자리수를
? 이라고 할 경우 ? ?? ? ??가 된다.

참고 자료

없음