증착결과 보고서

소개글

증착 실험 결과 보고서입니다

목차

1.실험 방법
2.실험 결과

본문내용

1.실험 방법

① 모든 밸브가 잠겨있는지 확인한다.
②증착시키려는 소스를 철판 위에 작은 시약 스푼으로 한 스푼 올려놓는다.
③ 셔터를 닫은 상태에서 슬라이드를 끼운다.
④ Rotary Pump Switch를 ON으로 한다.
⑤ Rough Valve를 풀어준다.
⑥ 진공의 정도를 까지 (Tube 안이 무색이 될 때) 확인한다.
⑦ Rough Valve를 잠그고, Foreline Valve를 연 후, Diffusion Pump를 ON으로 한다.
다.
⑧ Foreline Valve를 풀어 완전히 열어준다.
⑨ Diffusion Pump를 켜준 후 따뜻해 질 때까지 (가열된 기름이 확산 될 때 까지) 기다리다가 따뜻해지면 그 때 Main Valve를 열어준다.

<중 략>

CVD에 해당하는 증착법에는 MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), HVPE (Hydride Vapor Phase Epitaxy) 등이 있다. CVD는 PVD 처럼 원료물질을 일단 기체상태로 운반하나 이 원료물질들이 기판의 표면에서 화학반응을 일으킨다. 대표적인 CVD 증착물질인 GaN의 경우에는 MOCVD 법을 이용할 때 TMGa라는 Ga에 methyl기를 붙인 물질을 수송기체에 실어보내고 한 쪽에서는 암모니아 (NH3)를 불어넣어서 기판의 표면에서 TMGa의 Ga과 NH3의 N이 반응하여 GaN을 만들어내게 된다. 그리고 이런 화학반응을 일으키려면 대개 1000도를 상회하는 고온을 요구한다. CVD법으로 증착할 때 물질에 따로 다소 저온도 가능하지만 이 저온이란 것도 CVD에서는 500도 정도를 저온이라고 지칭한다. 즉, CVD법은 기판에 증착될 때 원료물질들이 PVD처럼 들러붙는다기 보다는 화학반응을 일으켜서 고체 상태로 변화하는 것이다.

참고 자료

없음