ITO(식각)

소개글

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목차

1.초록
2.서론
3.이론적배경
4.실험 방법
5.결과 및 고찰
6.결 론

본문내용

1.초록

이번 실험에선 ITO 기판에 식각을 하여 원하는 형태로 만드는 실험을 하였다. 첫째로 ITO 박막에 PR코팅을 하기위해 아세톤-IPA-메탄올의 순서로 Ultra Sonic장비를 이용하여 세정을 한 뒤 93℃ 온도의 HOT Plate위에서 1분간 건조후 Positive PR을 도포한 후 Spin Coating을 하였다. 그 뒤에 다시 Hot Plate를 이용한 건조 후 노광을 시켰다. 그리고 PR을 벗기기위해 Strip 단계를 거쳐서 원하는 형태의 ITO 기판을 완성할수 있었으며 제조장소가 백색등을 사용하지 않고 노란 불빛이나오는 yellow room에서 공정을 진행하는지 알수있었다. 그 이유는 ITO 기판에 일반 백색등의 광이 PR을 감광시키기 때문이다. 그리하여 감광율이 떨어지는 노란빛을 사용하는 yellow room에서 공정하는 것이다.

<중 략>

ITO를 현미경으로 관찰한 50배율 사진

위 현미경 사진을 통해 ITO 전극간의 폭을 알 수 있다. 현미경의 더 낮은 배율은 없어 전극의 폭은 현미경으로 확인할 수가 없었다.
이번 실험은 ITO 박막을 식각함으로써 전면의 ITO박막이 Positive PR에 도포되어 코팅되고 노광과 develop 등의 과정을 통해 원하는 ITO를 식각 하였다.또한 일반 백색등이 아닌 yellow room에서 실험한 이유도 알수 있었는데 그이유는 ITO 에 도포된 PR이 빛에 반응하기 쉬워 노광이 일어나기 힘든 노란색 빛이 도는 방에서 실험하는 것이다. 또한 주의할점으로 에칭시간을 정확하게 지켜야 하는 점이 있는데 그이유는 에칭시간이 길어지게 되면 ITO가 쭈글쭈글해지고 기포가 생겨 원하는 형태의 ITO를 만들기 힘들기 때문이다.

참고 자료

네이버 백과사전(이론적배경)
네이버 블로그(이론적배경)