Nano imprint lithography의 이해 및 응용(예비)

목차

1.Nono imprint Lithgraphy에 대해 조사(장단점 및 특징, 공정순서 등)
2. Nono pattern에 의한 광학적 물리적 성질 변화에 대해 조사. (Moth-eye, Lotus effect 등)
References

본문내용

1.Nono imprint Lithgraphy에 대해 조사(장단점 및 특징, 공정순서 등)

->나노 임프린트 기술은 일정한 패턴을 형성한 몰드를 판에 찍어내는 형태로 나노 패턴을 제작하는 기술이다. 몰드로 찍어내는 형식이기 때문에 저렴하게 대량으로 패턴을 제작할 수 있는 장점이 있으나, 미세패턴제작은 보통 전자선 노광에 의한 리소그래피와 건식 에칭 또는 비등방성 습식에칭으로 이뤄지기 때문에 몰드 자체가 고가라는 단점이 있다. 또한 몰드를 제거하는 과정에서의 표면처리와 전사장치의 전사결함 등의 문제가 있다. 기판을 폴리머계열의 물질을 사용할 경우 일반 평면패턴 이외의 굴곡이 있는 패턴을 프린팅 할 수 있는 장점도 있다.
=>NIL(Nano Imprint Lithography) 기술은 EUV와 함께 차세대 리소그래피 기술로 크게 주목 받고 있는 기술이다. Chou 교수가 제안한 NIL 기술은 전자빔 노광장치를 통해, 나노스케일의 구조를 갖는 스탬프(stamp, 템플릿 또는 몰드라고도 칭함)를 제작하는 것이다.

참고 자료

KISTI 유망기술 100선 나노기술부분 2007. 한국과학기술정보연구원
The Effect of Micro Nano Multi-Scale Structures on the Surface Wettability
http://plaza.snu.ac.kr/~mchoi/nanotech.pdf
http://blog.naver.com/ioyou64.do?Redirect=Log&logNo=120019552834