PVD 원리와 종류

목차

Ⅰ 서론

Ⅱ 본론
1. PVD 원리
(1) PVD란
(2) PVD의 메카니즘
(3) PVD의 특징
2. PVD의 종류 및 전망
(1) Evaporation
(2) Sputtering
(3) ion plating
(4) PVD 응용 및 향후 전망

Ⅲ. 참고문헌

본문내용

박막제조 기술은 과학기술의 기반이 되는 기술이며 따라서 많은 연구가 박막을 이용하여 이루어지고 있다.
박막제조 기술은 모재의 성능을 향상시키거나 모재에 부가적인 기능을 부여하는 표면처리 기술에 바탕을 두고 있다.
표면처리는 크게 소재의 표면에 특성이 다른 물질을 코팅하는 박막제조와 표면의 성질이나 조직을 변화시켜 새로운 특성을 부여하는 표면개질로 구분되는데 박막제조는 모재의 표면에 다른 물질을 코팅하는 것을 의미하며 표면개질은 질화나 이온빔 조사 등을 통해 모재의 표면을 변화시켜 성능을 향상 시키는 기술을 의미한다.
박막제조 기술 중 진공증착은 물리증착(Physical Vapor Deposition; PVD)과 화학증착(Chemical Vapor Deposition;CVD)으로 구분되는데 1950년대 이후 전자기재료를 중심으로 응용이 시작되어 비약적인 발전을 이루었으며 현재는 반도체나 디스플레이를 비롯한 각종 소재의 표면처리에 다양하게 응용되고 있다.

본 보고서는 박막제조 기술 중에서 건식코팅(Dry Coating)으로 알려진 진공증착에 의한 박막제조 기술 중 물리증착법(PVD)에 중점을 두고 그 원리와 종류에 대해 자세히 알아보고자 한다.

Ⅱ. 본론

1. PVD의 원리

(1) PVD란

PVD (Physical Vapor Deposition)란 아크, 열, 전자빔 등의 에너지에 의해 진공분위기에서 금속물질을 증발시키고, 플라즈마, 이온빔 등의 에너지로 활성화시킨 후, 기능성 소자에 원하는 조성 및 결정 구조로 요구도에 맞는 기능성 표면을 만드는 공정을 말한다.
PVD는 금속물질을 증발시키는 방법과 코팅될 때의 분위기와 반응성을 증대시키는 방법에 따라 여러방법들이 있다.
특히 공구나 금형 등의 하중과 충격이 큰 부품은 밀착력을 올리기 위해 플라즈마 클리닝과 이온충격공정을 반드시 하여야 한다.
클리닝과 표면반응을 얼마나 효과적으로 하느냐에 따라 금형과 공구의 성능과 수명을 올릴 수 있다.

참고 자료

정재인, “박막제조 기술의 동향과 전망”, 포항산업과학연구원 융합소재연구본부,, 146-149, 2011
김여중, “PVD법에 의한 Zn 및 Mg계 금속박막의 제작과 그 특성 규명”, 목포해양대학, 2006
PVD란 무엇인가,
https://www.google.co.kr/url?sa=t&rct=j&q=&esrc=s&source=web&cd=34&ved=0CCkQFjADOB4&url=http%3A%2F%2Fwww.dcnews.in%2Fnews%2Fview.html%3Fsection%3D81%26style%3Dtitle%26page%3D5019%26category%3D136%26no%3D406492&ei=FG0xVIWNNc3Z8gWYrIDoCQ&usg=AFQjCNGOfafCfnLCPnKizl-X1pk9LbxWow&cad=rjt