반도체 제조공정 실습 REPORT

*홍*

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최초 등록일: 2016.03.13
최종 저작일: 2015.11; 2페이지/ 한컴오피스; 가격 1,500원

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반도체 제조공정 실습 관련 REPORT입니다.

본문내용

1. 실험목표
- PVD 방법 중 하나인 Sputtering의 흐름에 대해 익히고 공정 조건변화에 따른 박막특성을 고찰

2. 실험과정
①Wafer 전처리 -> ②챔버 내 시편 loading -> ③Pump를 통해 진공분위기 -> ④공정 압력 조절 및 DC Power On -> ⑤증착 완료된 시편을 알파스텝을 통해 두께측정 -> ⑥접촉각 측정 -> ⑦반사율 측정

3. 실험결과
각 실험의 온도(상온), 공정시간(2시간), 증착 Target(W(텅스텐))은 모두 동일

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없음

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