자외선노광발표

목차

1. 노광 기술이란?
2. 광 노출 방법과 그 구조
3. 배경 이론
4. UV 광원
5. 노광 기술의 현재와 미래

본문내용

1. 노광 기술이란?
노광 공정기술
-노광 기술이란?
광에 의하여 마스크 상의 기하학적 패턴을 반도체 웨이퍼의 표면에 도포되어 있는 얇은 감광재료에 옮겨 놓는 기술
- 광 노광 기술 : 자외선(UV)
- 방사 노광 기술 : X-선, 전자빔 이온 빔 등
- 비광 노광 기술 : 담금펜, 나노각인 등

노광 장치 평가 방법
- 해상도 : 형상이 옮겨질 수 있는 최소 모양의 크기
- 인쇄 정합 : 앞서 만들어진 형상과 후속 공정 모형이 잘 일치
정렬된 정도
- 생산력 : 한 마스크에서 단위 시간당 노광시킬 수 있는 웨이퍼 수

참고 자료

없음