[고체 물리] 스퍼터링 결과 보고서

목차

1. 실험결과
2. 토의사항

본문내용

우리 실험의 목적은 박막 성장 방법 중의 하나인 sputtering을 이용해 substrate 물질인 silicon에 target물질인 구리를 증착시키는 것이다. 우리 실험의 경우에는 진공 상태에 가까운 챔버에 아르곤 기체를 넣어준 뒤, 플라즈마 상태를 만들어주었다. 음극에 (-)전압을 가하면 타겟이 장착된 음극과 기판이 있는 양극 사이에 전기장이 형성되고, 이 전기장에 노출된 아르곤 가스가 Ar+로 이온화 되면서 플라즈마가 발생하는 것이다. 이 때, 타겟 물질의 표면은 기판보다 음전위로 유지되기 때문에 Ar+가 타겟 표면으로 가속 후 충돌 되고, 타겟 물질에서 원자와 분자들이 기판으로 날아가 증착되는 것이다. 이 과정을 supttering이라고 한다. Ar에 의한 플라즈마는 보라색을 띄고 있어야하는데, 우리 실험에서는 초록색에 가깝게 관찰되었다. 이것은 챔버 상태가 좋지 않아서, 즉 진공이 잘 되지 않아서 불순물이 들어갔기 때문인 것으로 보인다.

참고 자료

없음