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재료공학실험1 - PECVD

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2019.09.20
최종 저작일
2019.09
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소개글

"재료공학실험1 - PECVD"에 대한 내용입니다.

목차

1. PECVD 공정
2. PECVD의 원리
3. 고려해야 할 변수
4. PECVD의 특징

본문내용

플라즈마 화학 기상 증착법의 줄임말으로 플라즈마를 이용하여 원하는 물질을 기판에 증착시키는 공정을 의미하며, TFT의 절연막과 보호막 증착시 이용한다.
여기서 플라즈마란 초고온에서 전자와 양전하로 분리되어 있고 중성을 띄는 상태를 의미하며, 플라즈마 영역은 Glow discharge와 Sheath로 나뉘는데, Sheath 영역에서 이온이 가속화 되며, 이 성질을 이용해 CVD증착을 한다.

참고 자료

없음

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