(특집) 포토공정 심화 정리16편. EBL, FIB 노광기법

소개글

(특집) 포토공정 심화 정리16편. EBL, FIB 노광기법 파일입니다.

총 19편으로 구성되어 있으며 해당 포토공정 공부를 통해 반도체 회사에 입사할 수 있었습니다.
반도체업계 취업준비를 하고 있다면 큰 도움이 되실거에요!

목차

1. EBL(Electron Beam Lithography)
2. EBL(Electron Beam Lithography)의 장단점
3. EBL(Electron Beam Lithography) 패턴형태
4. FIB(Focused Ion Beam)
5. FIB의 장단점

본문내용

* EBL(Electron Beam Lithography)
- 전자빔(E-beam)을 광원으로 이용한 Lithography
- 전자가 입자성을 띄고 있어 부딪히면 이리저리로 튄다.(scattering)
- Scattering 효과 존재 → Beam spot : 2nm, 일반적 Resolution : 15nm
(Scattering때문에 Resolution값이 커진다.)
- Writing : Mask가 없이 Layer을 그대로 E-beam용 Resist에 직접 그림(Computer Control)

* EBL(Electron Beam Lithography)의 장단점
- 응용 : Very high resolution lithography / Mask 제작

참고 자료

없음