PLD에 대하여

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최초 등록일: 2004.11.09
최종 저작일: 2004.11; 20페이지/ MS 파워포인트; 가격 2,000원

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1.서론

Physical vapor deposition (Sputtering)
- 비교적 쉽게 증착이 가능
- 박막의 조성이 박막 증착 조건에 크게 의존 - 원하는 조성의 박막을 얻기가 어려움

Chemical vapor deposition
- 박막의 증착속도가 빠름
- 복잡한 형상의 기판에도 우수한

step coverage
- 박막의 증착 온도를 비교적 높게 설정하여 실제 소자 적용시 여러가지 제약 발생

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없음

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