[재료공학실험] CVD와 PVD

소개글

재료공학실험3입니다.

목차

cvd
pvd
cvd와 pvd장단점 비교표
reference

본문내용

Ⅰ. C V D(chemical vapor deposition)

1. CVD의 개요
1.1. CVD(화학 기상 증착법)공정의 개요
외부와 차단된 반응실 안에 Substate(기판)를 넣고 Gas를 공급하여 열, 플라즈마, 빛(UV or LASER), 또는 임의의 에너지에 의하여 열분해를 일으켜(Si 기판과 공급된 O2와 반응하여 산화막을 형성 시키는 Diffusion 과는 달리) 기판의 성질을 변화 시키지 않고 solid Deposition를 이루는 합성 공정을 말한다
1.1.1. CVD System의 활용 범위
① Diamond thin film으로 coating된 향상된 음향성질의 speaker diaphragm Plasma CVD
② 향상된 마모 저항성을 지닌 bushings(관내에 끼우는 물질)과 textile 구성요소를 생산하기 위한 Diamond-like carbon coating. Plasma CVD
③ Uncoated toll 보다 크게 우세하고 산업에의 적용성이 빨라진 Titanium carbide와 Titanium nitride CVD-coated carbide toll

참고 자료

http://www.pvdworld.net/
http://www.postech.ac.kr/ce/lamp/main.html
메탈프라자 lecture 중 heat treat 부분 (PVD와 CVD)
금속기술 자료센터 (PVD와 CVD)
Solid State Electronic Devices, Ben G. Streetman, 2000