스퍼터링 증착

목차

1. 실험제목
2. 실험목표
3. 실험이론
4. R.F 스퍼터링 이론
5. 실험방법
6. 결과 및 고찰

본문내용

1. 실험제목
sputtering법에 의한 금속박막의 증착과 밀착력 측정

2. 실험목표
1) sputtering법을 이용하여 금속(구리)를 증착시킨다.
2) 밀착력측정법을 숙지하고 실제로 박막의 밀찰력을 측정할 수 있다.
3) 밀착력의 차이를 증착시의 공정변수와 관련지어 원인을 규명한다.

3. 실험이론
1) 스퍼터링이란?
스퍼터링(sputtering) 현상은 1852년 Grove에 의하여 처음 발견되었으며[3], 현재는 여러 가지 박막의 형성에 광범위하게 사용되어지고 있다. 스퍼터링(sputtering)은 높은 에너지(> 30 eV)를 가진 입자들이 target에 충돌하여 target 원자들에게 에너지를 전달해줌으로써 target원자들이 방출되는 현상이다. 만일 충돌하는 입자들이 양의 이온(positive -ion)이라면 cathodic sputtering이라고 부르는데, 대부분의 스퍼터링은 cathodic sputtering이다. 보통 스퍼터링에는 양의 이온이 많이 사용되는데, 그 이유는 양의 이온은 전장(electric field)을 인가해 줌으로써 가속하기가 쉽고 또한 target에 충돌하기 직전 target에서 방출되는 Auger전자에 의하여 중성화되어 중성 원자로 target에 충돌하기 때문이다.

참고 자료

없음