[전자공학]TFT-LCD의 기술과 향후전망

소개글

TFT-LCD의 정의,기술과 향후전망,시장 개황, 시장 전망, TFT-LCD 부품 생산 동향,
산업 발전 과정, LCD Color filter등에 관한 전반적인 내용입니다.
대학교 레포트로 제출하시면 좋을것 같네요..^^
레포트제출하시고 좋은 결과 있으시길 기도해드릴게요..^^

목차

1. TFT-LCD 정의와 개요
1) 시장 개황
2) 시장 전망
3) TFT-LCD 부품 생산 동향
2. LCD 산업 발전 과정
3. LCD 산업 전망
4. LCD Color filter
1) Color filter 의 구조
2) 안료 분산법에 의한 컬러 필터 제조 공정
3) 컬러 필터의 개발 현황

본문내용

TFT-LCD의 color 화면의 색의 구성은 backlight에서 나온 백색광이 액정 셀을 통과하면서 투과율이 조절되고 red, green, blue의 color filter(CF)를 투과해 나오는 빛의 혼색을 통하여 이루어 진다. CF 기판은 셀 사이의 빛을 차단하는 black matrix(BM), 색상을 구현하는 RGB pattern, 액정 셀에 전압을 인가하기 위한 공통전극(ITO)으로 구성되어 진다.
BM은 일반적으로 CF 제작에서 가장 먼저 CrOx/Cr 등으로 각 화소의 경계부근에 설치되며, TFT 어레이의 화소 전극으로 조절이 되지 않는 부분의 액정을 통과해 나오는 빛을 차단하여 LCD의 콘트라스트를 향상시키는 역할을 한다. 예를 들면, bottom gate 구조 TFT의 경우, TFT channel 부위는 gate 전극과 CF의 BM에 의해 광차폐가 이루어 지는 구조로 되어 있다. BM의 재질로는 optical density가 3.5이상의 Cr등의 금속 박막이나 carbon계열의 유기 재료가 주로 사용된다. 유기 재료를 사용하는 경우 BM-on-TFT 어레이 구조가 가능하여 고개구율 화소 설계가 가능하다.
CF는 RGB 컬러 필터 형성에 사용되는 재료에 따라 안료(pigment) 방식과 염료(dye) 방식이 있으며, 제작 방법에 따라 염색법, 분산법, 전착법, 인쇄법 등으로 분류할 수 있다. 현재 TFT-LCD 의 CF제조에 가장 많이 사용되는 방법은 안료 분산법으로, 여기서는 안료 분산법에 의한 CF 제조 공정에 대해서만 설명한다.
BM pattern을 형성한 후 색상을 구현하기 위한 RGB pattern은 안료(pigment)가 함유된PR을 사용하여 photolithography기술을 이용한다. CF의 형성은 통상적으로 R, G, B순서이다. 이때 사용하는 노광기는 CF의 pattern 정밀도가 상대적으로 높지 않기 때문에 proxy aligner면 충분하다. 통상적으로 RGB pattern은 동일 mask를 사용하여 화소 pitch만큼 shift시켜 노광하여 형성한다. Spin 방식 도포는 인쇄법에 비하여 color PR의 소모량은 많지만 두께 균일성이 우수하기 때문에 가장 많이 사용된다. 일반적으로 컬러 PR은 negative PR을 이용하므로 노광되지 않는 부분이 제거된다. 현상(develop)은 dipping, puddle, shower spray법 등이 사용되며 현상 후에는 post bake를 형성과 같이 컬러 PR을 바꾸어 동일한 mask를 shift시켜 노광하고 상기와 같은 공정을 진행하여 green과 blue pattern을 완성한다.

참고 자료

없음