[OLED]오믹컨텍트, T-T annihilation, work function

소개글

Ohmic conatact와 Triplet-triplet annihilation, workfunction에 대해 조사한 자료입니다. 유기 발광디스플레이에 나오는 개념들이구요~
기타 여러 과목에서도 나오는 개념입니다.

목차

1. Ohmic contact
1.1 Ohmic Contact란?
1.2 Ohmic Contact의 목적
1.3 Ohmic Contact의 방법
1.4 Ohmic Contact에 요건
1.5 Schottky contact와의 차이점

2. Triplet-Triplet Annihilation
2.1 Annihlation 의 정의

3. Work Function (일 함수)
3.1 Work Function이란?
3.2 OLED에서 Work Function
3.3 Metal의 Work Function

본문내용

1.Ohmic Contact
1.1 Ohmic Contact란?
전압-전류 특성이 옴의 법칙을 따르는 금속과 반도체와의 접촉을 말한다.
An ohmic contact is a region on a semiconductor device that has been prepared so that the current-voltage (I-V) curve of the device is linear and symmetric. If the I-V characteristic is non-linear and asymmetric, the contact can instead be termed a blocking or Schottky contact. Typical ohmic contacts on semiconductors are sputtered or evaporated metal pads that are patterned using photolithography. Low-resistance, stable contacts are critical for the performance and reliability of integrated circuits and their preparation and characterization are major efforts in circuit fabrication.

1.2 Ohmic Contact의 목적
반도체 소자에서 금속 결선을 뽑아낼 때 전극 금속이 소자의 특성에 큰 영향을 주지 않도록 하려면 전극 금속과 반도체 간의 접촉 저항치가 작은 옴 접촉으로 되어야 한다.

1.3 Ohmic Contact의 방법

일반적으로 불순물 농도가 낮은 반도체에 금속이 접촉되면 접촉면에 전위 장벽이 형성되기 때문에 양호한 옴 접촉을 기대할 수 없다.
원리적으로 전위 장벽의 높이는 금속과 반도체 간의 일함수의 차이로 결정되므로 적당한 금속을 선택함으로써 캐리어(carrier:반도체에서 움직이는 상태에 있는 전도 전자 또는 정공)에 대한 전위 장벽이 형성되지 않도록 한다.

참고 자료

없음