PLD

*정*

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최초 등록일: 2007.05.30
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PLD에 대해 간단히 설명한 ppt입니다.

본문내용

PLD (Pulsed Laser Deposition )
PLD란?
* PLD - Pulsed Laser Deposition
- sputtering 등과 함께 박막(얇은 막)을 만드는 물리
증기 증착의 한 방식이다.
- 금속, 절연체, 산화물, 폴리머 등 모든 고체물질의
박막증착이 가능하다.
- Target 조성이 박막조성과 유사하게 된다.
PLD System
Excimer
Laser
PLD 방법
박막
Plasma
기판
Target
Excimer Laser
박막형성과정
* Ablation 기구를 통해 높은 에너지를 가진 증발원들이 기판에 도달되어 양질의 박막형성에 유리
* 다른 증착법과 다른점은 거의 없음
PLD의 장점
1. 타겟 물질의 복잡한 조성을 옮기기에 편하다.
2. 증착 속도가 빠르다.
3. 양질의 박막형성에 유리하다.
4. 거의 모든 고체의 박막형성이 가능하다.
5. 증착시스템이 단순하다.
6. 챔버내 분위기의 종류 및 압력조절의 폭이 넓다.
PLD의 단점
1. Ablation이 일어나는 영역이 좁고 Ablation입자의 지향성이 강해 다른 증착법에 비해 균일한 두께의 대 면적 박막을 형성하기 어려움
2. 표면에 덩어리가 가끔 생긴다.
3. 균일한 두께의 대 면적 박막을 형성하기 어렵다.
진공 챔버 내부 압력에 따른 플라즈마 모습

참고 자료

없음

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