No.5 나노 크기 패턴을 위한 나노 리소그래피(논문형식자료)

소개글

나노 크기 패턴을 얻을 수 있는 리소그래피 기술 관련 내용을 논문 형식으로 편집하였습니다.

목차

1. 서 론
2. 본 론
2-1. LIL method
2-1-1. 실험 방법
2-2-2. 결과 및 고찰
2-3-2. 실험 방법 및 결과
3. 결 론

본문내용

1. 서 론
나노 구조의 제조기술은 집적회로, 양자소자, 고밀도 data 저장장치 등 산업에 좀 더 유용하게 쓰일 수 있기에 큰 매력을 보인다. 즉 현대 과학 기술의 많은 부분에서 나노 구조의 제조는 매우 중요하다. 그리고 많은 노력을 통하여 더욱 미세한 패턴이 만들어 지고 있다. 현재 Photo lithography, Electron beam lithography, Ion beam 패턴 기술에 초점을 맞춘 것이 평범하게 사용되고 있다. 그러나 이들은 고가의 장비나 좁은 패턴지역, 느린 속도, micron 단위의 패턴이라는 단점을 가지고 있다. 산업 사회에서는 비용 면에서 효율적인 대안법 개발을 열망하고 있다. 본 논문에서는 마스크가 필요치 않은 nano imprinting lithography, laser interference lithography, Self assembly lithography를 소개하도록 하겠다.
먼저 nano imprinting lithography는 기존의 나노 패턴 방법에 비해 훨씬 간단하게 원하는 패턴을 얻을 수 있는 장점이 있다. 또한 적은 비용이 듦에도 불구하고, 높은 출력량을 갖기 때문에 새로운 나노 패턴의 대량 생산을 위한 방법으로 각광 받고 있다. 이번 실험은 기존의 nano imprinting lithography법과는 다르게 polymer resin 대신에 monomer resin(C11H12O2)과 고압 chamber 안에서의 사용으로 single step process가 가능하였다.

참고 자료

없음