이온빔스퍼터링 or 스퍼터링

소개글

이온 빔 스퍼터링 Ion Beam Sputtering
이온 빔 스퍼터링
스퍼터링
이온 플레이팅
스퍼터 증착 공정
이온빔 스퍼터링의 개략도
반응성 스퍼터링
이온 플레이팅 소개
이온 플레이팅의 기본규칙
PAPVD 소개
문 제 영 역

목차

이온 빔 스퍼터링 Ion Beam Sputtering
이온 빔 스퍼터링
스퍼터링
이온 플레이팅
스퍼터 증착 공정
이온빔 스퍼터링의 개략도
반응성 스퍼터링
이온 플레이팅 소개
이온 플레이팅의 기본규칙
PAPVD 소개
문 제 영 역
실제 장치 소개
실제 장치 소개
요약 및 결론
스퍼터링과 이온 플레이팅의 요약 비교.

본문내용

이온 빔 스퍼터링
스퍼터링
이온 플레이팅
요약 및 결론
스퍼터 증착 공정
스퍼터링 공정 ;강력한 투사입자들의 충격에 의해 고체 타겟 으로부터 입자의 방출
스퍼터링의 가장 두드러진 특징은 만능성이다.
스퍼터-증착의 응용 ;전자산업 ,공구의 내마모성코팅 , 플라스틱 자동차부품의 금속코팅 등
장점/ 신뢰성 ,자동제어가능
단점/ 고가의 장비
스퍼터링 속도
R=6.23JSMA/δ(nm/min)
J ; 이온전류밀도
S ; 스퍼터링수율
MA ; 원자량
δ ; 타겟재료의 밀도
모멘텀 교환 공정의 개략도
타겟입자에 전달된 모멘텀은 그것을 격자속으로 움직이게 한다.
간단한 중심선에서의 원자충돌계산에 의하면 입사입자의 운동에너지는 일정 분율로 타겟 입자에 전달된다.
의 존 도
스퍼터링 효율이 입사이온의 에너지에 무관 ,타겟-원자/이온 질량비의 단순한 중가함수임을 저 에너지 및 고에너지의 경우에 모두 확인된 의존도 표시 =>>
원추의 단계 및 영향
복합 스퍼터링 타겟의 성능에 영향을 줄 수 있으며 ,그런 타겟이 고압에서 작동하는 스퍼터링 시스템에 사용 될 때 스퍼터된 물질의 일부가 개스에 의해 후방산란 될 수 있다.
반응성종의 스퍼터링
스퍼터링 수율은 이온의 질량에 따라 증가
스퍼터된 종의 성질
20보다 큰 원자번호를 가진 금속으로부터의 스퍼터 방출된 원자는 좁은 범위에 있는 방출속도를 갖음.
이온빔 스퍼터링의 개략도
충분한 이온들의 에너지와 전류밀도에 대한 독립적인 조절이 가능
반응성 스퍼터링
장 점
화합물들이 제조하기 쉬운 금속 타겟들을 이용하여 형성될 수 있다.
직류전원을 이용하여 절연 화합물도 증착될 수 있다.
조성상의 경사 박막을 제조할 수 있다.
어려운 점

참고 자료

없음