e-beam lithography

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최초 등록일: 2008.06.25
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소개글

nano박막생성시 사용되는 lithography기술소개 및 e-beam lithography를 원리 소개

1.Lithography란?
2.Lithography의 응용
(1)photo lithography
(2)soft lithography
(3)dip-pen lithography
3.E-beam lithography
(1)장단점
(2)작동원리
(3)작동과정
(4)사용목적
4.Next generation lithography
(1)X-ray lithography의 장단점 및 원리
(2)Ion beam lithography의 장단점 및 원리
(3)nano imprint lithography의 원리 및 종류
5.Reference

본문내용

Lithography란?
Lithography의 어원
Litho(돌) + Graphy(인쇄) 의 합성어
석판인쇄술에서 시작(1798년 독일)
반도체 제조공정 및 현미경, 사진인화 등에 응용
응용기술분야
Top down method
Photo Lithography
E-beam Lithography
Ion beam Lithography
Bottom up method
Nano Imprint Lithography
Dip Pen nano Lithography

Photo Lithography
초고밀도 집적회로의 제조에 중요 핵심기술
Rigid Photomask 사용
Optical Diffraction
Photosensitive material에 사용이 제한됨
UV light 사용

참고 자료

서울대학교 macro/nano systems & controls Lab 「Photo lithography 」
http://www.siliconfareast.com/lith_electron.htm
http://www.nmaker.ru
http://elc.korea.ac.kr/top7.html

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