이온침탄과 이온질화 및 표면 경화(질화)

소개글

위 자료 요약정리 잘되어 있으니
잘 참고하시어 학업에 나날이
발전이 있기를 기원합니다. ^^

목차

이온침탄과 이온질화 및 표면 경화(질화)

1절. 이온침탄
1. 이온침탄이란
2. 이온침탄의 특징
3. 이온침탄의 적용사례
① 고농도 침탄법
② 고심도 침탄
③ 난참탄재에 적용
4. 이온침탄의 향후 기술개발과 동향

2절. 이온질화
1. 이온질화
2. 이온질화의 특징
① 무공해이며 작업환경을 쾌적하게 할 수 있다.
② 처리에 필요한 에너지가 절약된다.
③ 처리시간이 단축되어 신속질화가 가능하다.
④ 저온처리가 가능하다.
⑤ 화합물층 조성이 자유롭다.
⑥ 스테인레스강과 같은 특수강의 질화도 용이하다.
⑦ 적용범위가 넓다.
⑧ 내식성이 우수하다.

3. 이온질화의 적용사례
4. 이온질화의 향후 기술개발과 동향
① 선진국의 기술개발 동향.
② 국내의 기술개발 동향

3절. 표면 경화(질화)
1. 고주파가열의 강재에 대해 설명
2. 순질화와 연질화의 비교 설명
3. 침탄후 열처리
① 구상화 어닐링 ② 퀜칭처리
③ 템퍼링 ④ 심냉처리

4. 적주식 가스침탄 메탄올의 열분해가스 반응에 대해 설명, ( ) 넣기 문제
5. 입계산화의 정의와 방지책 2가지 및 ( ) 넣기 문제
6. 침탄경화와 질화의 차이점
1) 처리온도 2) 확산침투법
3) 침탄후 반드시 열처리 필요
4) 침탄제품 질화제품

※ 참고문헌

본문내용

1절. 이온침탄

1. 이온침탄이란

이온침탄은 플라즈마 침탄이라고도 하며, 약 900이상의 고온이 필요하기 때문에 외부 히터로서 가열된다. 이 방법은 처리할 부품을 진공로에 장입하고 탄화수소 계 가스를 감압 분위기 중에서 가열해서, 음극에 놓여 있는 처리물과 전극 사이에 높은 전압을 걸어 글로우 방전이 생기게 하여 플라즈마를 발생시킨다. 이때 글로우 방전에 의해 분위기 중의 탄소는 이온화되면서 큰 운동 에너지를 가진 이온([C]+)으로 되며, 이 탄소 이온이 처리물 표면에 충돌하여 내부로 침투하게 되면 침탄이 되는 것이다. 최근에는 반도체 제조 기술에 이온 주입이 응용되고 있다. 이처럼 플라즈마의 이용 분야는 무한한 가능성이 있다.

2. 이온침탄의 특징

① 장치 및 탄소농도 관리가 간편하다.
② 전처리 및 침탄 방지가 간단하고 표면이 광택을 갖는다.
③ 침탄 속도가 빠르고 침탄 효율이 높다.
④ 고탄소 및 복합 침탄이 가능하다.
⑤ 경제적이며, 환경이 개선된다.
⑥ 탈탄 및 입계 산화층의 형성을 방지할 수 있다.
⑦ 변형의 발생이 적고 침탄층이 균일하다.


3. 이온침탄의 적용사례

① 고농도 침탄법
마르텐사이트의 기지에 구상의 탄화물을 분산 강화시키는 것으로 마모,피로, 및 고온연화에 우수한 기계적 성질을 얻을 수 있다.(자동차 부품, 베어링, 건설 및 토목용 기계 등에 적용)

② 고심도 침탄
인쇄기 압연기등과 같은 대형 베어링에는 고부하가 걸리기 때문에 3~4mm정도에 깊은 침탄이 요구된다.

③ 난참탄재에 적용
종래의 침탄법은 스테인레스강과 같은 경우 침탄이 어렵다. 그러나 이온침탄은 Ar ,H2, 혼합가스를 이용한 이온충격으로 표면에 산화물이 제거되며 무산화 조업으로 산화되기 쉬운 스테인레스강 및 고망간 비자성강과 같은 침탄이 매우 어려운재료에 침탄이 가능하다.


4. 이온침탄의 향후 기술개발과 동향

참고 자료

표면열처리 김학윤 • 박상준 공저 원창출판사 1997년 2월 20일 발행