ITO Scribing & Cleaning

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ITO Scribing & Cleaning
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목차

1. 실험목적
2. 이론
3. 기구 및 시약
4. 실험방법
5. 결과 및 토의
6. 참고문헌


1. 결과 및 토의

본문내용

1. 실험목적
1. OLED device의 투명전극으로 사용되는 ITO glass를 원하는 크기로 자르는 방법을 습득한다.
2. 원하는 모양으로 자른 ITO glass의 오염된 표면을 세정하여 소자의 성능 및 수율을 향상시킨다.

2. 이론
LCD, PDP, OLED 등과 같은 디스플레이용 전극재료로 빛의 투과도가 높고 전기적 성질이 우수한 ITO투명전도막이 많이 사용되고 있으며 최근 제품수명과 발광휘도를 개선하기 위해 표면의 평탄화 및 세정이 요구되고 있다.
ITO 박막 제조시 1. ITO박막의 국부적인 결정성장의 차이와 2. 박막표면위의 잔유 유기물은 표면형상과 조도를 거칠게 한다.
ITO박막 표면의 뽀족한 주상 구조는 국부적으로 전하 쏠림 현상을 초래하여 발광 시 유기물이 손상되어 흑점 발생 등에 의해 제품 불량의 원인이 된다.
또한 이 박막은 많은 탄소불순물을 가지고 있기에 일함수 값을 감소시킨다.
ITO박막의 일함수 값이 클수록 양극 ITO와 유기물층 사이의 전하주입장벽이 낮아져서 많은 수의 정공이 발광층으로 주입되어 발광개시전압을 낮출 수 있다. 이는 OLED소자의 작동과 성능에 매우 중요한 역할을 한다.
따라서 박막 표면의 세정은 반드시 필요한 공정으로 인식되고 있다.

⍟ ITO투명전도막을 세정하는 방법
1. 습식
2. UV/O3세정
3. 저압플라즈마: 3가지 방법중 가장 효과적인 방법으로 알려져 있으나 고가의 진공장비가 필요하고 생산성이 낮으며 진공챔버의 크기에 의해서 처리할 수 있는 기판의 크기도 제한된다.이러한 단점을 보완하기위해 최근에는
‘대기압 플라즈마를 이용한 공정개발’이 이루어 지고 있다.

⍟ UV 조사처리
UV조사처리를 위하여 진공상태에 있는 ITO박막을 365nm 의 파장을 가지는 UV램프로 조사시킨다. 조사시 챔버내의 산소유량을 변화시키면서 ITO표면을 세정한다. UV조사 시 반응에 의해 발생하는 오존과의 화학결함이 부분적으로 절단되어 발생되는 라디칼 등이 탄소불순물과 반응하면서 표면에 흡착된어 있던 탄소를 제거한다. 이 현상들을 살펴보면 다음과 같다.
① 라디칼, 오존,산소원자 생성반응
② 표면흡착탄소의 결합해리반응
③ 표면흡착탄소의 제거

참고 자료

관련 서적 및 인터넷
실험 교본