표면처리 - 은 합금 도금

*궁선*

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최초 등록일: 2008.11.05
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표면처리 - 은 합금 도금에 대한 발표 PPT 입니다.
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본문내용

은도금의 광택제
- 1920년 Frary에 의해 개발
- CS2로 광택, 현재까지 많이 쓰임

현대의 도금산업에 주로 이용되는 광택제
-하이포 (Sodium thiosulfide)
-학명은 티오황산나트륨

스트라이크[Strike] 도금
알카리 시안화은 도금시 스트라이크 은도금을 먼저하고 은도금을 해야함
정상공석 – 귀한 금속의 석출이 많음
은스트라이크 욕의 은농도는 낮고
- 농도가 높으면 침지 도금 발생
칼리나, 나트륨의 농도는 높음
- 은 이온을 밀어내기위함

퀴킹(Quicking) 처리 :
구리나 황동소재를 수은염 용액에 침적하면 수은 피막이 표면에 생성하여 소재로의 은치환이 되지 않기 때문에 밀찰력을 개선 해야함.이를 퀴킹 처리라고 함.

황동 주물, 양은 소재에 유효함.

장식용 은도금
경면광택 요구
목적 : 식기류, 장신구, 신변잡화
겉모양, 내식성, 내마모성 등이 중요시됨
정기적으로 광택제 경신

공업용 은도금

전기, 전자 기타 기능적 용도로서 각각 특수한 성능 요구

무광택 도금 : 광택제를 사용하지 않은 보통의 도금-반도체 부품등에 이용

반광택 및 광택도금
-도금욕에 첨가제(광택제, 경화제등)를 사용한 광택이 있는 경질도금-기타 일반전기, 전자부품등에 이용

참고 자료

전공서적및 인터넷

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