스퍼터링(sputtering deposition)의 이론 및 원리

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최초 등록일: 2008.12.24
최종 저작일: 2008.12; 24페이지/ MS 파워포인트; 가격 2,000원

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박막제조 기술 중 sputtering 방법의 기초 이론 및 원리에 대해서 설명한 자료 입니다.

본문내용

plasma란?!
-전체적으로 중성을 유지하고 있으나, 부분적으로 하전 되어있는 가스집단

plasma의 특징
1.전기적 특징
전체적으로는 중성이지만 1/만개~백만개 정도의 이온과 자유전자가 존재하므로 외부의 전계에 의해 전류를 흘릴 수 있는 특성을 갖는다. 특히 플라즈마의 온도는 입자의 운동상태와 직접적으로 연관되기 때문에 전도도 증가와도 관련된다.
2. 화학적 특징
플라즈마 내부에는 활발하게 운동하는 전자와 이온이 존재하기 때문에 다른 물질을 여기, 전리시킬 수 있다. 따라서 다른 물질의 화학 반응을 활발하게 일어나도록 분위기를 조장해 준다.

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