"감광막" 검색결과 181-200 / 905건

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  기능성 고분자

  선택적으로 통과시킴으로써 혼합물을 분리시킬 수 있는 액체 혹은 고체막으로 특정 종류의 물질만을 선택적으로 통과시키는 재질을 말한다.분리기능의 원리로는 막에 존재하는 아주 작은 구멍을 ... 기능성 고분자1) 감광성 수지분자내에 광반응성 물질의 특징과 고분자 특징을 함께한 감광성수지(Photo polymer)는 기능성 고분자 중에서도 많은 용도에 사용되고 있다.감광선수지에는 ... 통해 물질의 크기에 따라 분리하는 방법으로 여과가 있고, 막의 양측에서 물질의 농도차에 의한 확산을 이용하는 방법으로 투석이 있다.

  리포트 | 7페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.09.14 | 수정일 2020.09.15

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  스크린인쇄에 사용되는 페이스트

  .▶ 페이스트 성분특징 고형분 인쇄막이 필요로 하는 기능을 나타내기 위한 기능성분 (Metal) + 물리적으로 연결하여 막에 강도를 부여하는 구조 강화 성분 (Glass) 비히클 고형분을 ... 분산 및 점도 를 가지게 하는 역할 유기 바인더 (Binder) 와 유기 용제 (Solvent) 로 구성 페이스트의 기본특성 첨가제 감광특성 등의 특별한 기능 을 부여 + 페이스트의 ... 첨가제는 페이스트에 감광특성 등의 특별한 기능을 부여하거나 페이스트의 분산성 보관성 가공성 등을 개선하기 위하여 첨가하는 물질로서 다음과 같은 것 들이 있다 .▶ 페이스트 제조공정

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.10.22 | 수정일 2017.10.16

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  옵셋 인쇄판 조사 레포트

  사진 평판의 제판 원리사진 평판용 판 재료에 감광액을 도포하여 건조시킨 후에 빛쬠울 하여 현상하면 빛을 받은 부분은 감광막이 불용성으로 경화되어 화선부를 형성하게된다. ... 이것은 중크롬산염류가 빛의 작용에 의하여 Cr+6이 Cr+3으로 환원되어 프로틴(protein)분자에 배위결합을 하기 때문이다.한편 빛을 받지 않은 부분, 즉 비화선부는 감광막이 물에 ... PS판은 사진 필름과 마찬가지로 알루미늄 지지체에 미리 감광액 도포한 것이다

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.01.14 | 수정일 2019.10.01

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  3D 프린터의 원리, 사례 및 3D 프린터의 향후 전망

  단점은 역시 내구성이 약한 감광성 수지를 이용한다는 것인데 감광성 수지는 상대적으로 내구성이 약해 깨지기 쉬운 재질이다. ... 원료를 쌓아 올려 실제로 만들어내는 프린팅은 각종 파일을 3D 프린터와 접속시키면 3D 모델을 저장된 데이터로 많은 회수의 얇은 막으로 쪼개어 입력 자료를 분석하게 되며, 재료를 투입한 ... 수지를 매우 얇게 층으로 분사하면서 강한 자외선램프로 감광성 수지를 응고 시키는 원리이다.

  리포트 | 21페이지 | 2,500원 | 등록일 2017.11.22

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  메모리 반도체의 제조공정

  실리콘(Si)과 같이 단일물질로 구성된 웨이퍼에 소량의 다른 물질을 주입하기 때문에 불순물이라고 불림- (포토, photolithography) 반도체 웨이퍼에 감광 성질을 가지고 ... 전자빔 등의 설비를 이용하여 유리판에 옮기는 공정으로, 여기에서 제작된 마스크는 포토공정에서 웨이퍼에 회로를 형성할 때 사용하게 됨④ 웨이퍼 가공 : 웨이퍼 표면에 여러 종류의 막을 ... 이온화시킬 수 있는 방사선으로 X-선, 감마선 등이 해당- (연마, chemical mechanical polishing, CMP) 웨이퍼 가공과정에서 생성된 웨이퍼 표면의 산화막

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.06.30

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  수의생리학 정리

  형성된 retinal, opsin과 retinal이 합쳐져서 감광색소를 형성함어두울 때빛이 없을 때, GTP→cGMPcGMP + ligand-gated cation channel ... basilar membrane (기저막) :중이와 가장가깝고 좁고 뻑뻑함, 고음에 쉽게반응하게 진동이 울림, 난원창(oval window)에 가까운 부위가 반응->고음기저막이 넓어지고 ... 맥락막(choroid)와 색소상피(pigment epithelium)는 빛을 흡수함.

  시험자료 | 2페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.05.30

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  PLED소자제작 결과레포트

  잉크 분사 인쇄기 기술을 이용해 고분자를 기판 표면에 분사하면 얇은 막이 형성되며 이 막에 전극을 연결하면 빛이 발생한다. ... 수지를 네가형 포토 레지스트, 빛이 닿은 부분만 고분자가 가용화하여 레지스트가 사라지는 감광성 수지를 포지형 포토 레지스트라 한다. ... 재료, 인쇄제판용 감광재료 및 전자 표시 장치인 브라운관과 LCD의 칼러 화면 가공용 포토레지스트 재료로서 화상 형성작업에 중요하게 사용된다.

  리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.07.15

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  실크스크린(사진 다량첨부)

  이런 때에는 노출시간이 너무 부족했거나, 감광유제막이 너무 두껍게 발려서일 가능성이 크며, 혹은 필름과 판의 밀착이 약해서 감광이 제대로 되지 않는 경우도 종종 있다. ... -감광기계(제판기) : 공기를 압축시켜 순간적인 빛으로 감광을 할 수 있다.-샤워기 : 감광 후에 샤워기 혹은 스프레이를 사용하여 감광이 된 부분을 뚫어준다. ... -드라이기 : 감광액을 바른 후 감광액을 말리는 과정에서 사용된다.

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.03.15

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  photo resist

  특징1-감광막은 음성형 감광막(negative PR)과 양성형 감광막(positive PR)으로 구분된다. ... 음성형 감광막은 양성형 감광막보다 감도가 높고 산화막(SiO2)에 대한 밀착성이 우수하고 화학약품에 대한 내식성도 강하지만 해상도가 낮은 것이 큰 단점으로 지적되고 있다. ... 음성형 감광막의 해상도 한계는 4μm 정도이므로 3μm 이하의 해상도를 필요로 하는 초고집적회로 제작에는 해상도가 우수한 양성형 감광막을 사용하고 있으나, 산화막과의 밀착성이 나쁘고

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.07

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  리소그래피

  *지나친 온도와 시간 영향 양성 감광막 : etching 이후 감광막의 제거가 어려움 음성 감광막 : puddling(감광막이 오므라드는 현상)Etch LithographyLift-Off ... Lithography감광막 프로세스 Photoresist process감광막 도포 (PR coating)연화 건조 (soft bake)마스크 정렬 (mask alignment)노광 ... * Etching : 현상된 감광막 패턴을 이용하여 웨이퍼 상의 불필요한 부분을 제거하는 공정감광막 프로세스 Photoresist process식각 프로세스 Etching process

  리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.05.30

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  LCD

  ‘빛에 반응하는 감광성 고분자 물질’을 뜻하는 포토레지스트를 활용하면 빛을 받는 부분과 그렇지 않은 부분을 선택적으로 제거할 수 있습니다.2) 노광(Exposure), 현상(Develop ... 그리고 ITO라는 투명한 막을 증착합니다. ITO는 인듐과 산화주석의 화합물로, 전도성이 우수한 전극 재료입니다. ... 이 때, 마스크가 빛을 통과하지 못하게 막는 가림막의 역할을 하게 됩니다. 그러면 패턴 부분을 통해 빛을 받는 부분과 받지 않는 부분이 나뉘어 원하는 모양을 만들 수 있습니다.

  리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.06.14

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  현미경 종류

  X선을 이용하는 데는 여러 가지 방법이 있으나 주로 밀착법, 투영법, 주사법 등이 사용된다.① 밀착법 : 특수한 감광막을 가진 필름에 시료를 밀착시키고, 강력한 X선을 비쳐서 필름을

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.10.08

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  실리콘 웨이퍼 표준 세정, Cr 증착, photolithography, Cr 식각 실험

  또한, 등방적은 아니고, 가로 방향의 식각이 급속히 진행하는 경우도 있는데, 이것은 감광막과 바탕막의 밀착성이 나쁜 경우나 막의 표면에 식각 속도가 크게 다른 층이 존재할 경우 일어나기 ... 이런 결과로 감광막에 의해 보호되어야 할 박막의 끝 부분이 원형으로 식각되어 없어지는 언더 컷 현상이 일어난다. ... 식각이 널리 응용되고 있는 것이다.한편, 이방성 식각은 그림 (B)와 같이 식각반응이 수평방향으로 식각은 거의 진행되지 않고, 수직 방향으로만 진행되는 식각 상태를 말하며, 초기의 감광막

  리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2016.04.26

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  사진사와미학 A+ /사진과회화/사진과영화/비교및분석/모든것

  즉, 사진과 회화의 관계에 대한 생각은 시대적 상황에 대해 자세히 이해를 해야 그 깊이를 알 수 있다는 뜻이다.사진이란 무엇인가사진이란 물체의 형상을 감광막 위에 나타나도록 찍어 오랫동안 ... 이와 함께 감광판도 흑백 전용의 시대에서 컬러 시대로 발전하며 같이 공존하였다. 이러한 사진 산업의 엄청난 발전은 사진 인구의 폭발적인 증가를 가져왔다. ... 그라포스(graphos)의 합성어로 카메라를 사용하여 사물의 빛을 기록하고 표현하는 전 과정을 포함한다.영화란 무엇인가영화란 일정한 의미를 갖고 움직이는 대상을 촬영하여 영사기로 영사막에

  리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2018.02.28 | 수정일 2018.03.07

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  반도체공정실험 예비보고서(Photo lithography)

  Mask의 pattern은 얇은 Cr 막으로 형성되어 있으며 Cr pattern 위에 조사된 빛은 반사되어 PR을 감광시키지 못하며 Cr이 없는 부분은 투과하여 PR을 감광시킴으로서 ... Soft bakeSoft bake 공정은 용제를 증발시켜 감광막을 건조시키고 접착도를 향상시키며 열에 의한 annealing 효과로 응력을 완화시키는 과정이다. ... 잔여물을 제거하게 된다.PR(Photoresist)은 감광제가 기판에 도포되어 사용될 때까지 액체 상태로 유지시키는 용제(Solvent), 결합체로 사용되어 막의 기계적 성질(두께

  리포트 | 3페이지 | 5,000원 | 등록일 2014.09.23 | 수정일 2021.04.11

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  [다큐 리뷰] 소재 전쟁 일본의 습격

  보호막을 만들기 위해 코팅하는 재료다.2. 방향2.1. ... 파이브 나인 순도가 필요하다.(2) EUV 포토레지스트는 실리콘 웨이퍼에 바른 뒤, 빛을 받아 반도체 회로를 새기는 감광회로를 말한다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.08.28

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  습식식각PPT

  Wafer ` P 타입 N 타입 PR( 감광액 도포 )01. 식각 (etching) 공정이란 ? Wafer `01. 식각 (etching) 공정이란 ? ... 2) Si 3 N 4 가 ) 특징 질화 실리콘은 두꺼운 산화막 성장이 어려움 SiO 2 막의 식각을 위한 마스크로 사용 따라서 , HF, BHF 용액에서 식각 불가능02. ... 웨이퍼 스트레스 완화 폴리머 제거 산화막 식각 결합 / 금 범프 ( 전후면 공정 ) LSE-200 ( 습식 스핀에처 )03. 식각 (etching) 장비의 종류 ?

  리포트 | 23페이지 | 3,000원 | 등록일 2017.06.05

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  포토리소그래피 (Photolithography) 기술

  중요한 특성으로는 노광 감도, 막 강도, 분해능이 핵심 요소이다. ... 리소그래피 공정에서 사용되는 감광성 수지이며 반도체 디바이스의 미세화를 가능하게 해주는 재료이다.감광제는 폴리머(polymer)와 광감응제(sensitizer), 용제(solvent ... 조사하는 노광공정, 다음에 현상액을 이용하여 빛을 받은 부분의 PR을 제거하여 pattern을 형성시키는 현상공정으로 구성된다.기존의 포토레지스트에서는 노광된 부분에서 직접적으로 감광

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.12.07

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  공업화학 정리

  .- 이온교환막법을 이용한 가성소다 제조 과정전해가 개시되면 양극에서 염소 기체가 발생한다.- 수은법에 의한 NaOHO _{2} +96630cal- 비료의 3요소N,`K _{2} O ... 되지 않은 부분을 제거하는 공정을 에칭이라 하며, 건식과 습식으로 구분할 수 있다.감광성 고분자를 이용하여 실리콘웨이퍼에 회로패턴을 전사하는 공정을 리소그래피(lithography ... 제조에 있어서 작용물질의 조건경량일 것전기용량이 클 것자기방전이 적을 것- 반도체 공정 중 노광 후 포토레지스트로 보호되지 않는 부분을 선택적으로 제거하는 공정에칭- 반도체공정 중 감광되지

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.05.01

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  비은염 프로세스 Report.

  검프린트(Gum printing)3.필름 분판(출력소-nagative 상막 200선,CMYK)Cyan 분판Magenta 분판Yellow 분판디지털원고C M YC pigment M pigment ... 감광액은 내수성이 있는 종이에 도포,어두운 곳에서 건조시키고,네가티브 원고와 밀착하여 태양광 또는 자외선 광원을 이용하여 노광을 준다. ... 알부민 프린트(Albumen printing)알부민 프린트는 달걀흰자의 주성분인 알부민과 염화암모늄에 질산은을 첨가시켜 감광액을 만든다.

  리포트 | 52페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.28

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