"Metal Mask" 검색결과 201-220 / 538건

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  [LCD실험] TFT-LCD 분석

  식각(Etching)식각공정은 궁극적으로 기판 상에 미세회로를 형성하는 과정으로서 현상공정을 통해 형성된 PR pattern과 동일한 metal pattern을 만든다. ... PR의 종류에 따라 mask 또한 negative 혹은 positive로 분류되며 positive PR에 positive mask를 사용하거나 negative PR에 negative ... mask를 사용하면 PR에는 원상(original image)이, 그 외의 경우에는 역상(reverse image)이 형성된다.4) Develop(현상) 현상이란 노광 과정을 통해

  리포트 | 6페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14

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  [디스플레이공학] TFT-LCD 분해 및 광학현미경으로 심층분석 (LG,삼성,AUO)

  블랙마스크 물질은 최적의 명암비를 위해 반사율이 낮아야 한다.Back Matrix가 필요한 이유는 ? ... 삼성과 LG 방식은 Mask를 보다 쉽게 만들수 있고 빛이 투과하는 부분이 검정색이라서 빛을 모으는 성질이 있다. ... TFT의 gate metal은 gate line 위로 형성된 것을 추측해보면 TFT의 구조가 예측된다.

  리포트 | 10페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.01

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  습식식각공정

  식각 공정의 정의사진공정에서 감광액(Photo Resist)을 이용하여 형성된 MASK 지역 이외의 드러난 막질(POLY,OXIDE,METAL)을 식각 물질(GAS,CHEMICAL용액 ... 다만, METAL FUSE를 사용하는 DEVICE들의 FUSE 형성 과정에서 이례적으로 사용하는 경우도 있습니다.알루미늄은 일반적으로 DRY ETCH를 이용하여 식각을 하고 있으나, ... 선택적 식각 능력이 우수하다는 것이며, 이런 특성은 ACTIVE 영역을 형성하기 위하여 사용된 Si3N4 막질을 제거하는 경우 유용하게 적용된다.4) 알루미늄 ETCH알루미늄은 METAL

  리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.05.21

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  display engineering

  FMM (Fine Metal Mask) 박막의 금속 Mask 기판에 밀착 , 원하는 위치에 OLED 재료 증착하는 방식 - 수직증착 - SMS 방식 Substrate 1 2 3 Substrate ... TV 생산 가능 2011-12-19 14참고 자료 [1] 2009 년 연구기획시 특허동향조사 , 지식경제부 산업원천기술개발산업 , 6G 급 대면적 고해상도 AMOLED Fine Metal ... Mask 특허동향 [2] 2010.9, 교육과학기술부 , AMOLED 디스플레이 기술 연구 [3] 공업화학 전망 , 제 11 권 제 5 호 , 2008 기획특집 - 반도체기술 ,

  리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.12.21

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  MOS 소자 형성 및 CV 특성 평가

  실험 목적MOS(Metal-Oxide-Semiconductor)소자를 직접 제작하고, 작동원리를 이해한다.2. ... 이 떄 photo mask는 반대쪽에 Cr코팅이 되어 있다. ... 사용하여 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한 pattern을 형성시키는 공정이다.

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.05.12

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  반도체 공정

  (마스크), PR(Photoresist)이 사용만들고자 하는 회로가 기하학적 패턴으로 새겨진 Quartz판MASK액체형태의 감광물질, 웨이퍼에 얇게 도포 건조된 후, 마스크의 패턴을 ... (Reticle)의 역할마스크 제작설계된 회로패턴을 E-beam으로 유리판 위에 그려 MASK(RETICLE)를 제작 Pellicle : 투명 폴리머 막으로 Particle로부45% ... 수명 단축됨 현재 업체에서 사용하지 않음노광방법(Stepper, 5:1)마스크 패턴의 이미지를 감광제가 도포된 웨이퍼 위에 투사시켜 패턴을 형성 마스크의 손상이 발생하지 않음 마스크의

  리포트 | 50페이지 | 5,500원 | 등록일 2011.03.31

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  Photolithography를 이용한 patterning

  V mask : square glass plate 에 한쪽에 patterned emulsion 인 metal film V Alignment : mask 를 PR 에 접착 V Expose ... 를 사용하여 빛 을 선택적으로 PR 에 조사함으로써 mask 의 pattern 과 동일한 pattern 을 형성시키는 공정Photo resist? ... Photolithography : 특정한 화학약품 ( Photo resist ) 이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용 얻고자 하는 pattern 의 mask

  리포트 | 26페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.11.18

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  CVD

  passivation) ,TFT-LCD의 TFT 게이트 절연막에 사용3) 실리콘 산화막(SiO2)○ DRAM의 층간 유전체 (interlayer didelectric) 막○ Dry-etch의 mask ... MOCVD(Metal Organic CVD)기본적으로 CVD공정으로써 CVD에 의한 박막 성장 시 전구체로써 MO-source를 중심으로 Hydride나 반응물들을 사용하여 박막을 ... 화합물은 비교적 분해 온도가 낮고, 유기물의 탈착이 용이하기 때문에 원하는 재료의 박막 생성이 비교적 수월하다.※ Hydride(수소화물)II-VI, III-V 화합물 반도체 성장 시 Metal-Organics

  리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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  반도체제조공정 및 개요

  노광이란 빛에 반응하는 물질 ( Photoresist :PR, 감광액 ) 이 코팅된 웨이퍼 위에 패턴이 형성된 마스크를 올려놓고 자외선을 쬐어주어 감광막에 원하는 패턴을 전사시키는 ... Diffusion furnace확산공정과 이온주입공정 확산공정의 경우 반도체 웨이퍼의 표면에 마스크로 사용할 막을 형성한 후 ( 보통 산화물을 사용 ), 주입될 불순물을 그 위에 바르거나 ... , 가스와 웨이퍼 사이의 화학반응으로 절연막이나 전도성막이 형성됩니다 .박막 증착 공정 CVD (CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) 화학 기epper) 를 이용하여 Mask

  리포트 | 31페이지 | 3,500원 | 등록일 2012.06.19 | 수정일 2015.12.14

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  [LCD실험] Color filter 제작 및 분석

  아세톤이나 특정 solvent를 사용한다.⑹ 식각 (etching)식각공정은 궁극적으로 기판 상에 미세회로를 형성하는 과정으로서 현상공정을 통해 형성된 PR pattern과 동일한 metal ... dLCD 실험 Color filter 제작 및 분석실험 목적 : LCD color 구현을 위한 color filter를 제작하고 분석해 본다.실험 장비 :(1) Mask aligner ... microscope(3) Spin coater(4) Soft/hard baker(5) UV Spectrophotometer(6) Developer(7) Color photo resist(1) Mask

  리포트 | 9페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14

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  반도체 Assembly업체 품질 요구사항(Audit시 필요)

  Test : 100,000 ⑵ Temperature / Humidity : 25±3℃, 45±15% ⑶ ESD : According to ANSI S20.20 ⑷ Should wear mask ... The distance should be measured by 200 times microscope. ⑺ If bond lift with metal peel off/ bond short ... model than K S ConnX and/or ASM Ihawk ⑹ The distance between 8 mil wire of source area and isolated metal

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.06.01

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  삼성전자 반도체산업 개발, 삼성전자 반도체산업 성공요인, 삼성전자 반도체산업 핵심역량, 삼성전자 반도체산업 기술흡수, 삼성전자 반도체산업 메모리제품,삼성전자 반도체산업 제고 방안

  전사할 수 있다.웨이퍼가공의 최종단계는 絶緣體와 금속성물질의 필름을 웨이퍼위에 증착시켜(metallization) 웨이퍼에 형성된 내부회로와 외부의 전기적 연결을 완료하는 것이다. ... 산화막층의 형성에서부터 불순물주입의 확산과정까지의 공정을 서로 다른 마스크기판에 여러 번 반복해야 원하는 형태의 집적회로를 만들 수 있으나, 스태퍼방식에 의해 마스크패턴을 한번에 만들고 ... 이를 통해 마스크가 제작된다.웨이퍼가공은 우선 광택과정을 거친 웨이퍼위에 원하는 만큼의 두께로 산화막을 입혀서 실리콘결정을 보호하고, 마스크 패턴에 따라 형성된 산화막의 식각(etching

  리포트 | 15페이지 | 6,500원 | 등록일 2013.07.24

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  Side Guide최적 제어기술 적용현황

  설치Good12Tilted mill(or Leveling : difference in gap between chocks)언급없음Bad2,5,73Bar의 WS/DS 온도 편차Bar heating / Masking ... control, 2th SS gap제어기능)SSP, R1입측 Side Guide제어기술 적용CTQ측정위치..PAGE:5Side Guide제어 패턴APC기능(진입대기위치)SS1차(Metal-In ... Limit제어기능개선전W+100W+50 (x)x8,000 kgfQuick Open개선후W+100W+50W+108,000 kgfForce ControlR1 기준APC기능(진입대기위치)SS1차(Metal-In

  리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.11.19

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  반도체 제조 공정에 대한 리포트

  플랫존 : 웨이퍼의 결정 구조는 육안으로 못 보기 때문에 웨이퍼 구조를 구별할 수 있도록 결정에 기본을 두고 만든 영역마스크(mask)는 웨이퍼 위에 만들어질 회로패턴의 모양을 각 ... 그러기 위해서는 패턴(문양)을 사진으로 찍어 축소한 마스크(mask)를 마치 사진 인화할 때의 필름처럼 사용한다.반도체 제조는 기본적으로 6단계의 과정에 의하여 제조되며, 6단계의 ... 도면상에 회로가 제대로 연결되었는지를 확인하기위해 도면을 펴 놓고 사람이 그 위에 올라가 기어 다니면서 눈으로 검사 한다.⑤ 마스크(Mask)제작설계된 회로패턴을 E-beam설비로

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.07.02

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  sputtering을 통한 metal deposition 및 I-V, C-V 측정

  30초동안 coating한다.②soft bakeP-PR coating을 완료한 wafer를 100°C 2분간 baking 한다.③align & exposureSiO2층에 노출할 마스크baking을 ... Metal-semiconductor(MS) Junctionpn junction의 많은 특성은 적절한 metal-semiconductor rectifying contact(schottky ... 과목명마이크로팹설계 및 실험실험제목Sputtering을 통한 Metal deposition 및 I-V, C-V 측정실험목적Si wafer에 알루미늄을 Sputtering을 하고 I-V

  리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.04.21

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  반도체공정-유전체증착

  서리로 유리판 위에 그려 MASK(RETICLE) 를 만듦 . ... 웨이퍼 제조 및 회로설계웨이퍼 가공 (Fabrication) 웨이퍼의 표면에 여러 종류의 막을 형성시켜 , 이미 만든 마스크를 사용하여 특 정부분을 선택적으로 깍아내는 작업을 되풀이함으로써 ... 과 metal silicide 를 성장시킬 때 등 .• 결과적인 film 구조에 영향을 주는 factor 1.

  리포트 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.05.19

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  MOS트랜지스터 설계

  , Gate definition, Contact, Metal, Pad(option) (총 5장)설계물제출일자학번제출자MOS트랜지스터 회로 설계과제명— 첨부물: 설계된 도면( 각 Mask ... 분반 :비 고Composite Layout: Layer 별로 Color를 다르게 하여 한장의 도면상에 서로 구분이 가능하도록 설계Mask Layers: Active area mask

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.05.31

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  다양한 리소그래피법을 이용한 나노구조 형성

  리소그래피와 더불어 가장 유망한 차세대 리소그래피 장점 - 파장이 짧아 해상도에 제한을 받지않음 - 자동화를 통한 정밀제어가 가능 - 포토 리소그래피에 비해 초점심도가 깊음 - 마스크 ... extraction from a pixel), (c) 25 nm pitch patterned media (pillar size: 18 nm), (d) 17 nm half-pitch metal ... Jürgen Brugger , and Francesc Perez- Murano * Study of SU-8 conductivity: a) AFM topography image of the metallic

  리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.06.17

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  ITO(식각)

  baking이 있다.● 식각(Etching [Wet Etching])식각 공정은 궁극적으로 기판 상에 미세회로를 형성하는 과정으로서 현상공정을 통해 형성된 PR pattern과 동일함 metal ... ●UV 노광노광이란 photo mask를 통해 자외선 영역의 빛을 조사함으로서 mask상에 형성된 미세회로 형상(pattern)을 coating된 PR에 전사하는 과정을 말한다. ... coating된 PR에 미세회로 형상을 전사시킨다.PR의 종류에 따라 mask 또한 negative 혹은 positive로 분류되며 positive PR에 positive mask를

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.12.09

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  Si TFT공정과 포토리소그래피 공정 조사 레포트

  process, the first layer consists of the gate electrodes and gate bus-lines, which can have one or two metal ... using a part of the gate electrode as an electrode of the storactrodes are formed using about 2000A of metal ... chemically cleaned to remove particulate matter on the surface as well as any traces of organic, ionic, and metallic

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.06.23

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