"thin film deposition" 검색결과 201-220 / 313건

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  SPUTTER

  Cd2SnO4 thin film의 transmittance 측정 결과 [J. Vac. Sci. Technol. A 18(6), Nov/Dec 2000]Figure 3. ... Sputter Intro2009년3월20일 유균경Thin Film DepositionChemical ProcessPhysical ProcessEvaporationSol-GelPlatingCVDSputteringElectro ... Oxycarbides and oxynitrides of Ti, Ta, Al, Si그래프 자료: Parameter Optimization in Pulsed DC Reactive Sputter Deposition

  리포트 | 27페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.07

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  반도체공정 (Deposition & Evaluation)

  FabricationReport(12월)박 형 석< Film Deposition의 종류와 특징 >Film을 형성하는 방법에서 크게 3가지로 분류를 하는데, 다음 표와 같이 분류를 한다.Table ... 1.1 A classification of the film depositionPVD(physical vapor deposition)CVD(chemical vapor deposition ... Voids in film.Critical parameters forelectroplating film uniformityare:?

  리포트 | 39페이지 | 4,500원 | 등록일 2007.01.27

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  OLED의 소개 및 구조, 특징 등에관한 report (영문).ppt

  They are used as a thin film for full-spectrum color displays and require a relatively small amount of ... They are deposited in rows and columns onto a flat carrier by a sample “printing” process. ... The layer usually contains a polymer substance that allows suitable organic compounds to be deposited

  리포트 | 37페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.06.23

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  OLED 제작 전처리 공정 문서

  Evaporation 방법은 오래된 film deposition 방법으로서 공정이 단순하고 증착 속도가 빠르며 장비의 가격이 저렴한 장점이 있는 반면 film Quality 가 나쁜 ... Thin film HIC 의 제작 공정에 있어서 Evaporation 방법의 필요성은 빨리 두껍게 올려야 하는 AuSn, PbSn 등의 Euthectic alloy 의 증착 때문이다 ... 이후 2 차 세정을 통하여 잔류 금속 불순물들을 제거하여 최종 기판의 이물질을 제거하게 된다.(2) ITO Deposition우리가 Anode(양극) 으로 사용되어 지게 될 ITO

  리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.03.01

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  ITO,ITO glass,,박막 증착 기술,전착(electro deposition)

  박막 증착 기술반도체 소자나 집적회로의 제작에는 많은 종류의 박막( Thin film )이 증착된다. ... 대표적인 방법으로는 물리적으로 증착시키는 Evaporation, Sputtering, SOG( Spin on Glass) 등과 화학적인 반응을 이용한 CVD(Chemical Vaper Deposition ... 원료가 기체분자상태로 시료에 충돌, 부착막이 생긴다.CVD증착하고 싶은 필름을 가스 형태로 웨이퍼 표면으로 이동시켜 가스의 반응으로 표면에 필름을 증착시키는 방법이다.장점 : 고순도 film

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.10.20

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  Ultrasonic spray pyrolysis 장비를 이용한 TCO 증착(Al-doped ZnO제작)

  Thin film은 또한 열 반응에 좀 더 민감한 반응을 보인다.Thin film을 도포할 때 기판이나 하부 층 과의 접착력은 thin film의 신뢰성을 높이는 중요한 사항이다. ... 응용 분야는 Poly-Si, PSG, BPSG, Si3N4, W Thin Film 제조 등에 쓰인다.3-3 PECVD( Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition ... Thin film의 접착력의 신뢰성은 film이 도포되는 표면의 청결함에 좌우된다. 최적의 표면 거칠기(roughness)역시 접착력에 영향을 준다.

  논문 | 26페이지 | 8,000원 | 등록일 2017.09.28

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  TFT_LCD 공정과 원리

  AluminumReferenceMetal-Oxide-Semiconductor (MOS) Field-Effect-Transistor (FET) TFT Plasma processing in the fabrication of amorphous silicon thin-film-transistor ... AKT-55K PECVD is equipped with its innovative AKT-APXL PECVD process chambers which enable excellent film ... Systems equipped with Remote Plasma Source Clean technology enable highly repeatable deposition for over

  리포트 | 38페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.09

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  고온 SOFC 연구

  efficiency : thin thiknessE.Ivers-Tiffee, et.al., J. ... film thikness : ≤15μm ⇒ ion conductivity σ : 10-2S/cm : YSZ(700℃), CGO(500℃),LSGM(550℃) - maximum power ... conductivity vs. reciprocal temperature for selected solid oxide electrolytesASR : 0.15Ωcm2 ⇒ electrolyte thin

  리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.09.01

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  [공학]Thermal Evaporation법을 이용한 발광박막의 제조-알루미늄(Alq3)

  박막제조공정(Thin film process)의 개요Thin film process란 thin film deposition(증착)과 photolithography(사진식각) 기술을 ... Thin film deposition이라 함은 증착하고자 하는 물질(metal, dielectric, insulator, polymer 등)을 수 십 ~ 수 천 A(1 A = 10- ... film process를 의미하지는 않는다.3.

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.01.03

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  물리기상증착법(PVD)

  특 성Thin-Film Layer는 화학적, 열적 안정성 및 작은 마찰계수와 내마모성, s이다. ... Film인 TiN, CrN, AlTiN, TiCN층을 형성시키는 장치임3. ... 절삭가공 기술의 방향성.표면개질기술로서의 PVD(Physical Vapor Deposition : 물리증착법)을 중심으로한 코팅기술은 드릴, 엔드밀 아니면 기어절삭 공구 등 절삭가공을

  리포트 | 27페이지 | 3,000원 | 등록일 2009.09.03

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  TFT LCD manufacturing, 생산공정, TFT 원리, Thin Film Transistor (TFT) 원리

  즉, 박막증착(Th in Film Deposition), 사진,(Photolithography), 식각(Etching) 등의 공정으로 이루어져 있으며, 개개의 공정 전후에 결과 및 ... Thin Film Transistor (TFT) 원리TFT는 MOS의 4가지 동장 모드 중에서 축적 모드(accumulation mode)에서 동작하는데 이는 게이트 전압이 인가되면

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.23

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  Cryo pump의 구조와 원리

  Source를 기화시켜 Target 물질 위에 Thin film을 형성. ... circuit manufacture Decorative coating Particle acceleration Chemistry research E-beam welding Vapor deposition

  리포트 | 15페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.08.21

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  플라즈마 공정

  (주로 반도체 분야의 thin film 형성에 적용). Plasma 중합 : 플라즈마에 모노머를 주입시켜 polimerization을 통하여 기판에 고분자막 을 생성시킴. ... 활성가스를 챔버내로 주입하면 챔버 표면의 증착 막질과 반응하여, 휘발성 반응물의 형태로 배출된다.PECVDPlasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ... 들어오고 나가게 해야 함 자기장 근처에서의 선택적인 스퍼터링에 의한 타겟의 소모가 크다 자성 재료의 스퍼터링이 용이하지 않다Plasma-assisted Physical Vapor Deposition

  리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.01.16

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  화합물 반도체(Compound Semiconductor)

  film deposition) 공정, 사진식각(photolithography) 공정, 세정(cleaning) 공정 등으로서, 반도체 IC의 제조는 이러한 단위공정들의 반복 사용을 ... 집적회로 제조기술은 여러 가지 단위공정기술의 조합으로 이루어져 있는데, 이들은 불순물 주입(doping) 및 확산(diffusion) 공정, 산화(oxidation) 공정, 박막증착(thin ... ; PVD)법과 화학기상증착(chemical vapor deposition; CVD)법으로 크게 분류된다.

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.29

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  [공학기술]박막 공정,PVD,증착,진공증착,스퍼터링 보고서

  박막 공정THIN-FILM PROCESS목 차1.박막공정6p1.1. 박막공정의 정의7p1.2. 박막공정의 과정7p2. 세척7p3. 증착8p3.1. 증착의 정의9p3.2. ... Thin Film Formation at PVD14그림 9. Induction Heated Sources16그림 10. 증발 및 증착 과정 개략도17그림 11. ... CVD(Chemical Vapor Deposition)41p5.1. LPCVD47p5.2.

  리포트 | 70페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.08.16

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  PCB공정의 이해

  내층 노광 Core CCL상에 Lamination된 Dry Film위에 Working Film Negative(음각용) Film 을 정합하여 맞춘 후, 정해진 Intensity(노광량 ... Bonding (본딩) 레이 업(적층) 작업을 위해 1차로 내층 회로가 형성된 Thin Core CCL을 Prepre와 510mm x 610mm(4/J)가 주로 많이 사용되며, Sawing ... 도금되는 동 두께는 0.5 - 1.0㎛ 이며, 사용되는 촉매는 Pd가 주로 사용된다. - 무전해 동도금은 Metal Deposition(금속 석출법)으로 Chemical Oxidation

  리포트 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.11.14

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  Poly-Si 결정화 방법

  film을 얻는 가장 직접적이고도 오래 사용하였던 방법이 SPC이다.As deposited된 material은 a-Si 이던지 다결정 실리콘이던지 상관이 없다. ... 이하에서도 성공하였으나 다결정 실리콘의 quality가 떨어지고 전기적 특성 또한 좋지 않았다.Solid phase crystallization(SPC): a-Si으로부터 다결정 실리콘 thin ... Hudrogen atom들을(증착시 기판 온도에 따라 차이가 있으나 대략 20%내왜의 Hydrogen이 포함되어 있음) 따로 anneal-out 해야 하는 공정이 필수적이다.As deposited

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.02

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  [금속공학]건식증착법

  Thin film HIC의 제작 공정에 있어서 evaporation 방법의 필요성은 빨리 두껍게 올려야 하는 AuSn, PbSn 등의 eutectic alloy의 증착 때문이다. ... Evaporation 방법은 오래된 film deposition 방법으로서 공정이 단순하고 증착 속도가 빠르며 장비의 가격이 저렴한 장점이 있는 반면 film quality가 나쁜 ... 건식 증착법담당교수담당조교학 번이 름제출일건식증착법 (Vapor Deposition)들은 두가지로 나눠볼수 있다.하나는 PVD (Physical Vapor Deposition)이고

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.30

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  Evaporator 원리및 설명, 진공의 종류및 응용

  Film Technology, 1968http://www.haanappel.net/ryan/resume/experience-dielectric.php펌프의 종류건식 로타리 베인 펌프 ... an auxiliary pumping system.Figure 2: This diagram illustrates the thermal evaporation methodSource: Thin ... (PVD): 물리적 기상 증착Chemical Vapor deposition(CVD): 화학적 기상 증착PVD방법은 기판위에 박막을 증착하기 위한 빔이나 가스의 흐름을 만들어내면서 물질을

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.06

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  [화학공학] [실험보고서]박막의표면처리 및 식각 보고서

  .◆ 박막 형성 (Thin Film Deposition)- 기판상에 절연막, 실리콘막, 금속막을 형성(퇴적)시키는 막으로 CVD(Chemical Vapor Deposition :화학적 ... layer deposition(thin) a pho자 ... plating : thin film HIC 등과 같이 film을 비교적 두껍게 올려야 하는 경우 주로 사용하는 patterning 방식이다.

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2005.06.14

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