• 파일시티 이벤트
  • LF몰 이벤트
  • 서울좀비 이벤트
  • 탑툰 이벤트
  • 닥터피엘 이벤트
  • 아이템베이 이벤트
  • 아이템매니아 이벤트
  • 통합검색(288)
  • 리포트(257)
  • 시험자료(18)
  • 논문(9)
  • 자기소개서(3)
  • 서식(1)

"light exposure" 검색결과 261-280 / 288건

  • [LCD] LCD 기초
    그리고 메트릭스형은 복잡한 문자, 화상표시 등에 이용됩니다1.6 OLED♦ OLED (Organic Light-Emitting Devices) = OELD (Organic Electro ... )현 상 (Develop)식 각 (Etch)박 리 (Strip)Color PR도포 (Colored PR Coating)노 광 (Exposure)현 상 (Develop)BA습식 식각( ... Inspection)세 정 (Cleaning)SUBSTRATEAlDCAlAlAlAlAr+AlAr+TARGETSPUTTER증 착 (Deposition)PR도포 (PR Coating)노 광 (Exposure
    리포트 | 42페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.07.26
  • LCD패널제작
    감광액 도포(Photh Ressist : PR Coating), 정렬 및 노광(Align & Exposure), 현상(Develop)이 주 요 공정이다. ... Color Filter 제조공정(Color Filter 공정)TFT-LCD의 Color 화면은 Back Light(B/L)의 백색광의 투과율을 조절하는 TFT와 액정 Cell의 동작과
    리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.03.25
  • [사진공정]사진공정(파워포인트 확실한 자료)
    Emerging Lithography TechnologiesVery Thin Resist LayersRadiation scattering during exposure of a resist ... pattern transfer from masks onto thin films is accomplished almost exclusively via photolithographyUV light1 ... lenses in Projection: 0.16~0.60The Rayleigh criterionThe Rayleigh criterion defines two incoherent light
    리포트 | 85페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.04.04
  • [Photolithography]Lithography
    -마스크는 음양에 따라서 Dark filed와 Light field 로 나눌 수 있다.-마스크는 종류에 따라 하드마스크와 에멀젼마스크로 구분할 수 있다.2.) ... 이러한 현상들은 나중에 exposure treatment 및 무반사코팅, SLR(ing-layer resist) MLR(multi-layer resist) 방법 등을 사용하여 줄일 ... ) Mathematical expression for resist profile양성PR의 slope은 현상에서 주도적인 영향을 받게 되는 노광과 O2와 N2 상태에서의 Flood exposure
    리포트 | 30페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.04.07
  • [커뮤니케이션]조건화와 모델링 이론
    두 번째: 구두로 전해지는 단어가 충격의 끝.A집단: 켜짐(light) 단어=시작, 꺼짐(dark) 단어=끝.B집단: 켜짐(light) 단어=끝, 꺼짐(dark) 단어=시작.충격의 ... 학습이론에 의한 이미지 형성과정의 설명(2) 이미지 형성의 장애요인과 광고제작① 그늘효과(Overshadowing)② 방해효과(blocking)③ 단독 무조건 자극 효과(US Pre-Exposure
    리포트 | 22페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.02.21
  • [직접회로] 생기교육자료 ETCH 사진2
    SubstratePhase "0"Phase "180"Phase ShifterDirection of Light PropagationElectric field굴절률(n)=1.5굴절률= ... EXPOSURE FLOW SEQ.3-4-1. ALIGN TREE3-4-2. ALIGNMENT CROECTION3-4-3. SHOT & EXPOSURE AREA3-4-4. ... EXPOSURE TIME3-4-5. EXPOSURE TECHNOLOGY SYSTEM3-4-5-1. OFF AXIS ILLUMINATION3-4-5-2. PSM3-4-5-3.
    리포트 | 42페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.12.22
  • [심리학]정신병에 연결시키게 되는 독창성
    to bright light.Another possibility goes to the different stages of paying more attention to what is ... investigating nonaddictive drugs and ways to manipulate biorhythms, the 24-hour sleep-wake cycle, with varying exposures
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.12.16
  • [의학약학]간호: GB Stone 수술실 케이스
    GB grasping fcp 넣어 아래 site는 assist가 GB를 잡아 Liver 뒤쪽으로 traction하여 duct area exposure한다. ... 금요일환자도착시간마취시작시간Incision/procedure 시작시간Closure/proedure 끝난시간마고 silk 5호 2가닥으로 비닐과 scope, 비닐과 카메라 line 각각 두군데 묶어 고정하고 scope에 light
    리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.05.30
  • [반도체공학] 반도체 제조공정
    (약 50nm)Device processDevelop Bake열을 이용하여 굽는 것(확산)Exposure에서 light를 받은 부분과 받지 않은 부분 구분확산 웨이퍼의 표면에 도펀트층을 ... : 노출된 광막으로 하여금 산화시키는 역할을 하고 화학적 변화를 일으킴Device processStepper Exposure PR로 코팅된 웨이퍼에 mask위의 회로패턴을 UV light로 ... 노출시켜 wafer에 그려줌 UV light를 쓰는이유?
    리포트 | 29페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.01.02
  • 영화의 역사 영어 리포트
    However, due to the long exposure time required by the wet-plate process then in use, each phase of a ... developed devices in which posed photographs of motion, mounted on a revolving disk, passed between a light
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.09.28
  • [반도체공학] ION IMPLANTATION & RAPID THERMAL PROCESS
    억재하기 위한방법 - IMPLANT ANGLE (Tilt/Twist)을 이용한다. - OXIDE와 같은 AMORPHOUS LAYER를 사용한다. - Si, Ge등으로 WAFER exposure ... Doped Drain IMPLANT) Lightly Doped Drain Implant공정은 Short Channel영역에서 발생되는 ELECTRICAL FIELD로 인해 가속된 ... LAYER)를 형성시켜 Ti/TiN DEPOSITION후, Ti SILICIDE ANNEALING시 PHASE TRANSFORMATION이 잘 되도록 하는 것이다. 2.4.2 LDD (Lightly
    리포트 | 33페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.02.21
  • [영화]영화의 용어
    일반적으로 헬리콥터에서 찍는다.과다 노출 over exposure (T) 카메라 렌즈 구경을 통해 과다한 빛이 들어오는 것으로, 이경우 영상이 표백된다. ... shot, rear projection(T) 배경장면이 연기자 뒤에 설치된 반투명의 스 크린 위에 투사되어 마치 연기자가 그 장소에 있는 것처럼 보이도록 만드는 기법.백라이팅 back lighting
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.10
  • 반도체공정
    STEPPER EXPOSURE사실상 레이저패턴발생기와 e-beam패턴발생기는 실제로 웨이퍼의 원형을 그려내고 웨이퍼의 소자층을 노출시켜 원형 하나를 만드는데 사용됩니다.이러한 공정은 ... 이것은 단파 UV light의 사용을 요구한답니다. ... light가 사용되는 것은 오늘날의 반도체 소자의 크기가 매우 작기 때문입니다.
    리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2003.10.15
  • [광학] 홀로그램(Hologram)
    파괴 검사 상황에서 응력,진동,열등으로부터 생기는 물체의 미소 변형 (백만 분의 1인치정도)을 조사하고자 할 때, 세가지 다른 방법들이 매우 유용한 것으로 밝혀졌다.Double Exposure ... Hologram로 구분된다Reflection HologramsTransmission HologramsHead Up Display (HUD)Center High Mounted Stop Light
    리포트 | 47페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.12
  • [온라인 마케팅] 인터넷 광고
    This study will analyze the advertising formats and location of online ads to shed light on these issues.Technological ... Even though forced exposure ads may be a more effective way to get the ad message across, will online ... These researchers found that ads with the highest forced exposure are most effective in increasing advertising
    리포트 | 30페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.06.09
  • [수능 외국어영역]수능필수영단어 자가시험자료
    underground제 57 회1. not to speak of2. back and forth3. agriculture4. erect5. affair6. cave dweller7. slight8 ... (l)ment6. even7. bring up8. recall9. arrow10. stubborn11. disorder12. curly13. aim14. reflection15. exposure16
    시험자료 | 34페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.08.06
  • 반도체 제조공정
    약 1.0~0.152.0Å정도의 소자를 만드는데 사용된다..노광 (Exposure)포토 마스크를 웨이퍼 위에 얹은 다음, 조준을 맞추고 강한 자외선을 통과시킨다. ... 이것은 단파 UV light의 사용을 요구한다. ... 노출시킨다.UV light가 사용되는 것은 오늘날의 반도체 소자의 크기가 매우 작기 때문이다.
    리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.10.15
  • [간호] 수술실 - 부분 위 절제술
    사용물품대야, suction, bovie(long tip), Mayo 고무포, blade #20 #10 #15, surgikos, lymphnode tray, puspan, Tape, light ... ∼치골결합까지 skin shaving(2) Betadine solutionsternum 이하 chest 하반부 - 복부전반을 cleasing2) Incision & Abdomen Exposure ... anastomosis 의 high resection이 어렵기 때문에 right보다 left paramedian incision이 더 좋다.(2) great traction 없이 적당한 exposure
    리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2002.11.16
  • [사진]사진학개론
    사진기를이용할때20001941이윤열사진학개론사진노출 (exposure)감광재료의 감광면에 빛을 작용시키는 것을 말한다.
    리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.05.05
  • [반도체] 반도체 제조 공정
    노광 (Exposure)설계된 마스크의 패턴에 광원을 이용하여 웨이퍼상에 노광한다.포토 마스크를 웨이퍼 위에 얹은 다음, 조준을 맞추고 강한 자외선을 통과시킨다. ... UV(ultra-violet) light는 노출된 광막으로 하여금 산화시키는 역할을 하고 화학적 변화를 일으킨다.- e-beam pattern generatore-beam 패턴 발생기 ... 나타낸다- Laser pattern generator레이저 패턴발생기는 CAD의 패턴 스켓치의 정보를 인식하고 포토레지스트의 선택한 부분에 고밀도 UV(ultra-violet) light
    리포트 | 71페이지 | 2,000원 | 등록일 2003.06.03
  • 레이어 팝업
  • 프레시홍 - 특가
  • 프레시홍 - 특가
  • 레이어 팝업
  • 레이어 팝업
  • 레이어 팝업
AI 챗봇
2024년 07월 19일 금요일
AI 챗봇
안녕하세요. 해피캠퍼스 AI 챗봇입니다. 무엇이 궁금하신가요?
10:09 오전
New

24시간 응대가능한
AI 챗봇이 런칭되었습니다. 닫기