"Metal-organic chemical vapor deposition" 검색결과 281-300 / 1,057건

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  화학적 기상 증착법 (Chemical Vapor Deposition) 7~8분 분량의 핵심적인 내용만 담은 잘 정리된 PPT자료

  - influenced by various factors  Metal-Organic CVD(MOCVD) - Metal-Organic compound - High reproducibility ... Surface Treatment Processes Chemical Vapor DepositionWHAT IS THIN FILM? ... chemical compositions High step coverage Selective deposition AdvantageS of CVDClassification of CVD

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.11.17

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  VLSI공정 5장 문제정리

  Metal Organic CVD전구체 물질이 유기 금속 화합물 일 때의 CVD공정MOCVD의 응용분야고 집적화 및 고품질이 요구되는 반도체 공정고출력 LED칩 소자 개발에 필수적인 ... (VPE) - Vapor phase epitaxy기상으로부터 실리콘 층이 성장하는 것. ... -대면적을 균일한 두께로 증착 가능-두께 조절 용이-정확한 합금성분 조절-step coverage, grain structure(입자구조), stress(응력) 조절가능-전처기 청결

  리포트 | 10페이지 | 4,000원 | 등록일 2018.06.05 | 수정일 2020.05.03

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  기계공학실험 - 마이크로 표면측정

  Vapor Deposition), 금속이나 고분자의 표면처리, 신물질의 합성 등 에서 이용되고 있으며, 공정의 미세화, 저온화의 필요성 때문에 플라즈마 공정이 종래의 공정을 대체하고 ... 이중 공업적으로 이용이 활발한 플라즈마는 저온 글로우 방전 플라즈마로서 반도체 공정에서 플라즈마 식각(Plasma Etch) 및 증착(PECVD: Plasma Enhanced -Chemical ... -0.066manu23 가능하다.

  리포트 | 10페이지 | 2,500원 | 등록일 2017.07.18

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  MOCVD의 구성 및 원리

  MOCVD (Metal-Organic chemical vapor deposition)- 기본적으로 CVD공정으로써 CVD에 의한 박막 성장 시 precursor로써 MO-source를 ... Organic CVD)CVD : Chemical Vapor Deposition 기체 상태의 화학적 성분들이 기판 위에서 화학 반응에 의해 박막을 형성하는 공정CVD? ... - Metal-Organics : 하나의 metal 원자가 Origanic hydrocarbon group의 하나 또는 그 이상의 carbon 원자들에 구속 되어 있는 compound이다

  리포트 | 30페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.24

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  Synthsis of Ether (ether의 합성, 예비)

  Display Chemical-Engineering Experiment, first edition 20073. ... Organic Chemistry by McMurry, seventh edition 2008 PAGE \* MERGEFORMAT - 3 - ... 그래서 crown ether같은 경우 그 링의 사이즈에 따라 특정 금속이온 (Metal Cation)을 링의 중심부에 잡아내는 능력을 가지고 있다.

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.06.04

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  기능신소재 자성유체 부경대학교

  플라즈마 CVD法 플라즈마 CVD(Chemical Vapor Deposition)법에 의한 제조장치를 사용새로운 제조법자성유체의 응용1. 각종 자성유체 씰자성유체의 응용2. ... 인공위성의 로켓연료를 무중력상태에서 공급하게 할 목적으로 자성유체화 하는데 이용하였다.자성유체의 특징분산성이 우수하여 중력, 원심력, 자장 등의 작용 하에서 침강이나 응집 등의 고-액 ... 장 점 : 습식제조법에 비해 대량생산과 동시에 값싼 자성유체를 만들 수 있다.흡착-유기상 분산法자성유체의 제조법일본의 東北大學이 개발한 제조법으로 과거부터 알려진 방법으로 Fe2+

  리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.09.01

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  고분자공학 설계-전도성 고분자 전극이 적용된 슈퍼커패시터

  ~3000 다이아몬드 2000~4000 구리 393.7화학기상증착법에 의한 다중벽 카본나노튜브합성 (CVD : chemical vapor deposition) FeCl 3 를 촉매로 ... Electrochemistry capacitor 전극과 전해질이 접한 계면에서 서로 반대 극성의 전하가 배열 , 분포하게 되면 전기 이중 층을 형성하고 이로 인해 전극계면에 정전용량이 발생하는 원리 Metallic ... 카본블랙 첨가 공정순서카본블랙 - 피로강도증가 , 마모저항성증가 술폰산염 - 내열성증가 요오드 - 전도도 증가 기대효과특성 에너지 밀도가 높음 자기 방전율이 3-5%/ 월 이하로 작음

  리포트 | 24페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.12.14 | 수정일 2013.12.31

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  ZnO

  Vapor Deposition(CVD) Gas 공급부 반응실 배기부 Energy 부Introduction Chemical Vapor Deposition(CVD) 의 장단점 장점 적용대상의 ... Vapor Deposition(CVD) 의 종류 1. ... Discussion ObjectObject CVD 법을 이용하여 wafer 위에 ZnO nanowire 를 합성한다 .Introduction E gap =3.37eV 의 직접 n-type

  리포트 | 28페이지 | 2,500원 | 등록일 2012.05.07

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  ITO Pattering 공정 예비레포트

  ·etching식각공정은 궁극적으로 기판 상에 미세회로를 형성하는 과정으로서 현상공정을 통해 형성된 PR pattern과 동일한 metal(혹은 기타 deposition된 물질) pattern을 ... 폴리메타크릴산 메틸, 나프트키논디아지드, 폴리브텐-1-슬폰 등이 있다. ... 투과시키어 노광시키고 PR film에 UV의 선택적인 노광을 거치면서 감광된 부분의 PR이 분자 결합 구조를 wet etching은 주로 liquid상태의 chemical을 사용하는

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.07.15

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  메탈 이중층 전극을 이용한 유기 박막 트랜지스터의 성능향상

  한국유화학회 형건우, 양진우, 이호원, 구자룡, 황진하, 김영관

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  탄소나노튜브 시트 필름

  Spin-capable MWCNTs on iron catalyzed on a SiO2wafer was grown by chemical vapor deposition, which was ... AbstractWe investigated a flexible transparent film using the spinning multi-walledcarbon nanotubes ( ... The MWCNT sheets were produced bycontinuously pulling out from super well-aligned MWCNTs on a substrate

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2012.11.20

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  반도체 제조 공정 (P-N Junction) 반도체 공학

  CVD(Chemical Vapor Depositon ) 장점 : 큰 면적 증착 단점 : 1000 ℃ 이상 고온이필요한 공정 화학 증착재료 GaN ( 질화갈륨 ) 등 Metal P-type ... P-type Si Wafer Metal SiO ₂ SiO ₂ N-type Metal Polymer BOE P-type Si Wafer Metal SiO ₂ SiO ₂ Metal Polymer ... PVD(Physical Vapor Depositon ) 장점 : 공정시간이 짧다 , 상온에서 공정가능 단점 : 증착면의 균일도가 CVD 보다 불안정하다 .

  리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.11.18 | 수정일 2013.11.21

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  탄소나노소자의 특성과 응용 - CNT의 종류, CNT의 원자구조 및 특징, CNT의 합성, CNT의 응용, 풀러렌의 성질과 응용, 풀러렌유도체의 합성, 그래핀

  (Thermal Chemical Vapor Deposition), 기상합성법(Vapor Phase Growth), 전기분해법 등이 있다.CNT의 응용Scanning probe microscopy ... 이렇게 합성된 SWNT들은 'rope'의 형태로 존재한다.그 외에 플라즈마 화학기상증착법(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), 열 화학기상증착법 ... 길며, 육각형과 육각형 사이의 6-6-결합은 짧다.

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.09.26

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  양자점 분자구조의 특성 및 소자응용

  양자점 인공분자구조본 절에 소개할 InGaAs/InGaAsP/InP 양자점 분자구조는 InP (001) 기판위에서 유기금속화학기상증착법(metal-organic chemical vapor ... deposition, MOCVD)을 이용하여 76 Torr의 압력 하에서 trimethylindium (TMIn), trimethyl- gallium (TMGa), AsH3, PH3를 ... S-K (stranski- krastanov) 모드라 불리는 방법이다 [11].

  리포트 | 11페이지 | 7,500원 | 등록일 2013.10.17 | 수정일 2019.06.19

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  GC - 가스크로마토그래피의 이해

  Compounds0.1ppm(0.1ng)Electron Capture Detector (ECD)Organic Halogen Compounds Organic Metal Compounds0.1ppb ... Instrument Chromatogram : Obtained “picture” Chromatographer : Analyst*Qualitative(정성) Analysis: What chemical ... 분리.Column에서 분리된 각각의 성분들의 양을 전기적인 신호로 변환.시료：혼합물 （Gas or Liquid）기체시료액체시료GC시료주입부Column검출기*~400℃의 온도범위에서 기화(vaporizing

  리포트 | 29페이지 | 4,000원 | 등록일 2013.02.24

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  반도체 제조공정 이론 정리

  Chemical(Liquid)이 기판(Solid)쪽으로 확산하며 식각이 진행된다. ... Metal(확산차단제)로 TiN을 사용하면 된다.43. ... ALD (CVD와의 차이) 장단점Atomic Layer Deposition으로 된다.

  시험자료 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2016.06.24 | 수정일 2022.10.17

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  Graphene그래핀, CNT조사 (성질, 합성, 제조, 응용분야, 대체 가능성)

  니켈을 활용한 방법은 주로 화학기상증착시스템(CVD; Chemical Vapor Deposition)니켈의 그래인 사이로 탄소를 침투시킬 수 도 있고, 니켈의 용해도를 이용하여 고온에서 ... 전기적 성질밴드 구조상 반금속(semi-metal)로 분류되며, 그래핀의 사이즈가 일정 정도 이상 작아져서 그래핀 나노리본을 형성할 경우 밴드 갭이 형성된다.? ... 롤투롤(R2R: roll-to-roll)?

  리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.05.29 | 수정일 2017.01.09

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  84화합물 반도체 공정 [2조] 성장기술 (HVPE,LPE)

  Chemical Vapor Deposition; MOCVD )3.에피택시 성장법의 종류수소화물 기상 에피택시 (HVPE, Hydride Vapor Phase Epitaxy)Index기상 ... 에피택시 (liquid phase epitaxy; LPE ) 분자선 에피택시 (molecular beam epitaxy; MBE ) 금속 유기물 화학 증착법 (Metal Organic ... LPE 의 결함4-1.

  리포트 | 35페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  Termpaper - 새로운 나노 구조 재료 만들기

  Aluminum Oxide, atomic layer deposition and chemical vapor deposition. ... thermal evaporation , sputter deposition, template-assisted growth , vapor-liquid-solid method, Anodic ... Various approaches were applied to synthesize ZnO nanowires, for instance, vapor-phase method, rapid

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.15

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  반도체 입문교제(Metal)

  CVD(Chemical Vapor Deposition) : 화학적 기상 도포, 가스의 화학 반응을 이용 3. ... PVD(Physical Vapor Deposition) : 물리적 기상 도포, 플라즈마를 이용하거나 금속 재료를 가열하여 금속 막을 웨이퍼에 deposition하는 방식. 2. ... METAL-1 상부 비아가 VIA-1임.1. 금속 배선(Metal Interconnect)의 목적 및 역할 가.

  리포트 | 30페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.11.08 | 수정일 2016.05.08

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