"스퍼터링" 검색결과 361-380 / 774건

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  반도체공정 레포트 최종

  인가할 수 있도록 금속단자가 필요한데 이러한 금속단자를 반도체 웨이퍼에 만들어주는 과정이 금속공정이다.금속공정을 통해 단자를 형성하기 위한 방법에는 화학기상증착 또는 열증착 및 스퍼터링 ... 것을 확인 한다.⑥ 플라즈마를 사용하기위해 MFC의 유량 조절 페닝 게이지는 이때 끈다.⑦ 최적화된 진공을 유지하면서 DC파워를 넣는다.⑧ 원하는 파워에 위치시킨 후 셔터를 열고 스퍼터링 ... Plasma 내의 Ar+ 이온은 큰 전위차에 의해 cathode(target)쪽으로 가속되어 target의 표면과 충돌하면, 중성의 target 원자들이 튀어나와 기판에 박막을 형성한다.스퍼터링

  리포트 | 21페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.01.25

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  주사전자현미경(Scanning Electron Microscope)에 관한 레포트 입니다.

  따라서, 세라믹이나 고분자 등의 부도체시료는 탄소막의 진공증착이나 금-팔라듐을 스퍼터링(sputtering)하여 전도성 코팅을 하여야 한다.

  리포트 | 10페이지 | 3,000원 | 등록일 2015.04.27 | 수정일 2016.07.09

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  진공증착 (Sputtering)_re

  증착질량을 이용하여 스퍼터링 후 얼마나 많이 도금되었는지 확인할 수 있다. ... SputteringⅠ Abstract이번 실험은 스퍼터링에 대해 이해하고 그와 관계된 압력계, 펌프등에 관해 이해하는 실험이었다. ... 실험 이외에도 가스의 종류에 따른 플라즈마 색의 변화, 증착된 박막의 구조, 여러 가지 펌프와 압력계, 스퍼터링 이외의 박막증착법에 대하여도 조사를 통해 알 수 있었다.Ⅱ Result1

  리포트 | 8페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.06.10

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  PVD Evaporation & Sputtering 종류 및 원리,

  이라고 하는데 이 기술을 응용한 증착 방식이다.(2) 스퍼터링 증착 방식스퍼터링 증착에는 많은 방식이 있으며 전극의 구조, 스퍼터링하는 입자의 발생방법 등에 따라 분류할 수 있다. ... (가) 이온빔 스퍼터링 기술 (Ion Beam Sputtering) ... 전망 [출처] 진공증착|작성자 gangnarunet나) Sputtering 기술(1) 원리높은 에너지의 입자를 고체에 조사하였을 때 타겟의 구성원자가 테겟 표면에서 방출되는 현상을 스퍼터링

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.09.28

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  [박막공학]여러가지 박막 제조 공정

  하는 과정을 반복함.DC sputtering DC sputter의 구조접지진공아르곤 주입구웨이퍼가열기전극 (양극)전극/타겟 (음극)아르곤 플라즈마 (글로우 방전)-V (DC)DC 스퍼터링 ... 생성됨분자 빔 형태로 기판에 반도체성 물질을 가함Epitaxy-결정 구조의 성장분자 빔과 표면 사이의 작용분자 빔과 표면 사이의 여러 작용들을 통해 새로운 층을 생성함.Sputtering스퍼터링의

  리포트 | 30페이지 | 3,000원 | 등록일 2005.11.16

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  Ion plating method

  활용 -이온빔을 타겟 표면에 조사함으로써 스퍼터링 현상을 유도 -이온빔의 가속전압과 이온유속(Ion flux)을 제어함으로써 스퍼터링 속도를 조절 2. ... 증발원 타겟 균일하게 용식→수명 연장 이온 플레이팅(PVD)의 기본이론 이온 플레이팅(PVD)의 기본이론 Ion Beam Assited Deposition system 이온빔의 활용 스퍼터링원으로

  리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.03.18

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  탄소나노튜브 성장 기술

  성질열적성질기계적성질아크방전법기술코로나 방전법레이저증착법화학기상증착법열분해법HIPCO화학기상증착법탄소를 포함하고 있는 탄화수소기체와 기판으로는 전이금속이 사용됨, 따라서 성장 이전에 스퍼터링이나

  리포트 | 15페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.05.10

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  수소 분리막

  분리막 제조에는 다음의 3가지 기술이 필요하다.압출기를 이용하여 니켈 파우더를 지지체로 성형하는 기술지지체 위에 분리막인 팔라듐과 구리를 스퍼터링 방법으로 코팅하는 기술분리막이 고압의

  리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.03.06

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  증착결과 보고서

  다만 CVD는 PVD보다 일반적으로 훨씬 고온의 환경을 요구한다.PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation), 열증착법

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.11.06

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  12DryEtching

  중성을 띠게 되고 (웨이퍼가 전기적으로 중성 을 유지할 수 있게 하기 위 하여, 전자를 방출시키는 가 열 필라멘트로 되어 있다.)웨이퍼 쪽을 향하여 이동RF 스퍼터 식각플라즈마RF 스퍼터링은

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  플라즈마

  스퍼터링이란 간단히 말해 금속판에 아르곤 등의 불활성 원소를 부딪쳐서 금속 분자를 쫓아낸 후 표면에 막을 부착하는 기술이라 할 수 있다. ... (sputtering)스퍼터링 장치 I원리와 구성Sputtering은 실로 많은 부분에 사용되어지는 없어서는 안 될 기술이라고 할 수 있다. ... 여기서 인가된 전원이 직류(direct current, DC)일 경우를 직류스퍼터링법(DC sputtering methode)라 하며 일반적으로 전도체의 sputtering에 사용된다

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.11.01

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  반도체공학의 공정

  이온 플레이팅 기술의 발전도 스퍼터링 기술과 마찬가지로 높은 이온화율과 빠른 증착속도를 얻는 방향으로 진행되었다. ... 증발은 도금할 물질을 기화하는데 있어서 열에너지를 이용하는 방법인 반면, 스퍼터링은 플라즈마를 형성한 다른 기체의 운동에너지를 이용해서 도금물질을 기화하는 방법이다. ... 이온 플레이팅은 증발에서 얻을 수 있는 빠른 증착 속도와 스퍼터링에서 얻어지는 치밀한 박막 미세조직과 화합물 형성능력을 조합한 혼성(Hybrid) 기술이라고 할 수 있다.

  리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.09

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  진공 증착기를 이용한 Ohmic Contact 형성용 Metal 박막 증착 결보

  증발시키는 방법으로는 저항가열, 유도가열, 전자빔, 마그네트론, 반응성 증발, 아크방전등 여러 가지가 있으며, 일반적으로 증기상 증발 (vapor evaporation), 이온 스퍼터링

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.05.09

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  소결의 목적

  마찬가지로, 분말은 제트 엔진, 자동차 엔진, 금속 절삭공구, 생체의학용 보강재, 스퍼터링 타겟 및 자기 기록소자 등의 고 기능성 부품의 제조에 사용된다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.08.20

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  반도체 CMP공정 교육자료

  Blanket wafer의 산화막 균일제거 : SOI wafer의 실리콘 단결정층 제거 3) 요철 표면의 돌출부를 선택적으로 제거하는 것 : 디바이스화 공정 중(절연막 공정후, 층간 배선 스퍼터링

  리포트 | 42페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.10.20

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  Etching (에칭)

  결국 가속에 의한 물리적 에너지와 이온이 가지는 화학적 에너지(반응)에 의해 해당 물질은 스퍼터링 과정으로 진행된다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.12.20

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  GaN의 식각

  다만 CVD는 PVD보다 일반적으로 훨씬 고온의 환경을 요구합니다.PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation),

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2014.05.22

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  Lithography, Sputter, VSM, PHR, MR 의 실험 이론 및 방법 및 결과 및 고찰

  이러한 원자들이 원하는 기판위에 쌓이게 되는데 우리가 원하는 물질로 성장 시키는 것이다.1-2 스퍼터링 장치- 스퍼터링의 장치는 대략 왼쪽과 같은 그림이 기본이다.

  리포트 | 31페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.12.18

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  ITO 투명전극

  ITO 투명전극 조사목 차●ITO의 정의●ITO 재료 및 타겟●스퍼터링 법으로 인한 최적의 타겟●고주파 마그네트론 스퍼터링 법을 사용하여 상온에서 증착시간을 변화 시켜서 결정 화된 ... 조직적 특성조사스퍼터링 조건에 따른 ITO 박막의 전기 저항을 four point probe를 이용하여 측정 민감한 전기 비저항의 변화를 보이다. ... 얻지 못했기 때문이며, 본 연구에서는 스퍼터링 된 입자들이 결정화되기에 충분한 에너지를 가질 수 있는 두께가 형성될 시간을 부여했기 때문으로 생각된다.

  리포트 | 15페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.09.29

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  Ion plating(이온플레이팅)

  ION - PLATING이온플레이팅은 진공증착, 스퍼터링에 이어 개발된 것이지만 종래 진공증착의 개량법으로도 생각할 수 있다. ... 이러한 고정을 이온스퍼터링 ( ion sputtering )이라고 부른다. 한편으로, 전자빔을 코팅시킬 금속에 충돌시켜 코팅물질을 이온화시킨다. ... 따라서 이온플레이팅은 증발원자의 이온화에 의해 막의 밀착성이 뛰어난 점이 특징이다.응용분야는 현재 진공증착, 스퍼터링이 주로 전자재료, 광학재료 등의 박막형성에 이용되는데 비해 이온플레이팅은

  리포트 | 13페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.10.05

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