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"Hybrid linear ion source deposition" 검색결과 21-40 / 173건

  • 증착법
    이 때 증착시키는 물질은 source물질이라하고 이 때 박막의 오염이 되면 안되고, 증발된 source물질이 기상에서 분자와 충돌하여 산란하는것을 막기위하여 고진공(torr이하)을 ... 대부분의 충돌은 풍부한 source gas간에 지속적으로 계속 발생하지만 일부 충돌은 라디칼과 가스 사이에서 발생하며 화학적 반응이 끝나게 된다. ... 단점으로는 X-ray 발생과 E-beam source 위에 원자의 농도가 크므로 와류 또는 discharge가 심하다.1. 3 스퍼터링 법(Sputtering)스퍼터링이란, 진공 속에서
    리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2018.12.08
  • [기초공학실험]Cu film의 전기적 특성 분석 실험
    장점- Plasma의 발생 및 oscillating power source를 사용하므로 거의 모든 재료를 sputtering 가능- 낮은 working pressure? ... 따라서 전자가 어느 한 쪽으로 몰리게 되면 다른 전극에는 ion으로 생성된 sheath가 생기게 되며 DC의 경우와 마찬가지로 sputtering이 발생하게 된다. ... 조성을 바꿀 수 있다.④ 산화물의 증착이 가능하다.⑤ 증착막 두께의 균일성⑥ 큰 면적의 타겟 이용 가능⑦ 열적증발(Thermal evaporation)이 없다.⑧ 아크 증착(Arc deposition
    리포트 | 8페이지 | 3,200원 | 등록일 2019.09.02 | 수정일 2020.08.10
  • thermal evaporator(서머 이베퍼레이터), E-beem evaporator(이빔 이베퍼레이터) 조사 레포트
    증발에너지는 전자빔을 사용하고 표면개질을 위한 표면에너지를 제공하기 위해서 Ion source가 필요하다. ... 그림 (2) 의 상단부에 있는 것은 기판을 장착시킬 수 있는 Dome이고 왼쪽 하단부에 있는 것은 Ion source이고 오른쪽 하단부에 있는 것은 전자빔이다. ... source의 대표적인 것은 저항가열식 source와 전자빔 source이다.
    리포트 | 9페이지 | 3,000원 | 등록일 2015.05.30 | 수정일 2015.10.04
  • [분자생물학실험]E.coli 에서의 GFP발현 유도
    primer가 각각의 상보적인 sequence를 찾아서 biding하는 과정으로 binding, annealing, hybridization등 다양한 용어로 부른다. ... E. coli cell이 DNA를 uptake할 수 있는 상태 (competent)로 만들어 주기 위해 E. coli cell을Ca ^{2+}과 같은 multivalent ion의 ... transformation이 일어나기 위해서는 DNA조작은 안정적으로 유지되어야 한다① molecular mechanism of DNA transformation of E. coliE. coli는 linear
    리포트 | 15페이지 | 4,600원 | 등록일 2019.01.01 | 수정일 2020.08.05
  • A review of Hydrogel complex/수화물 복합체의 리뷰
    Photothermal poly (N‐isopropylacrylamide)/Fe3O4 nanocomposite hydrogel as a movable position heating source ... Thermal responsive4-4 pH responsive4-5 Dual responsive4-5-1 Thermal & pH responsive4-5-2 Thermal & ion ... "Morphology and Thermoresponsive Behavior of Hybrid Micelles of Polystyrene-b-Poly ((N-isopropyl acrylamide
    논문 | 59페이지 | 50,000원 | 등록일 2023.05.09
  • 박막증착
    The PVD processes include arc evaporation, sputtering, ion plating, and enhanced sputtering.Vacuum depositionSputteringIon ... OperabilityGood.Excellent.Available.ProductivityExcellent.Poor.Good.Device pricesLow-high price (depending on the choice of evaporation sources ... So we want to run the second step, thin films deposition. you will understand not only principle of deposition
    리포트 | 10페이지 | 4,900원 | 등록일 2015.09.15 | 수정일 2021.01.02
  • [ppt템플릿,ppt,ppt디자인,ppt양식,ppt배경,파워포인트템플릿,템플릿,ppt테마,파워포인트 배경,피피티템플릿
    Which is the source of every single human achivement from th da one. ... AGRICULTURE AGE IDUSTIALL AGE INFORMATION AGE…contrary to the common-sense “intuitive linear” view. ... THE EDUCAT GAP ION HOW TO BRIDGE THE GAP BETWEEN WHAT OUR KID LEARNING IN SCHOOLS TO DAY AND WHAT THEY
    ppt테마 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.10.29
  • 표면개질공학 sputtering 원리와 특징, 현상과 응용
    가장 일반적인 magnetron source그림. ... 이러한 결과는 입사하는 입자가 target과 합금이나 합성를 형성해서 evaporation 같이 spitting이 없다.arc deposition 같이 작은 물방울이 형성되지 않는다 ... 전자 source의 여기에 변화를 줌으로써 전압과 무관하게 전류를 변화시켜 이온 밀도 높이고 낮은 전압 사용 가능?증착 속도 증가?
    리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.01.05
  • PVD 원리와 종류
    sputteringMagnetron sputteringIon beam sputteringIon platingElectron Beam Ion plaingCathodic arc ion ... source)으로부터 기판(substrate)에로의 이송(transfer) ③상기 입자들의 기판에의 증착(daposition)④기판 표면상에서의 증착입자들의 재배열(rearrangement ... 반면, 증발속도의 제어가 어려운 단점이 있다.④ Cluster Beam Deposition그림8.
    리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.07.27
  • 세라믹이란, 세라믹 종류에 따른 mp, 세라믹의 설계, fracture, 금속 vs 세라믹, 세라믹의 특징, 고전세라믹과 신세라믹 비교
    ) 양이온은 산소 FCC 격자의 빈자리에 위치함ca. 89% covalent bonding both Si and C prefer sp 3 hybridization Therefore ... 2 r cation r anion Coord # 0.155 0.155 - 0.225 0.225 - 0.414 0.414 - 0.732 0.732 - 1.0 3 4 6 8 linear ... + Ca 2+ cation vacancy • Substitutional anion impurity initial geometry O 2- impurity O 2- Cl - an ion
    리포트 | 36페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.09.30
  • USE mutagenesis
    Centrifuge the tube for 5 seconds in microfuge to deposit the fluid at the base.10/ synthesis buffer3 ... Centrifuge the tube for 5 seconds in a microfuge to deposit the fluid at the base. ... of transformants is recovered, digested once more with the same restriction enzyme to linearize the
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.09.13
  • 이온빔 보조 증착법을 이용한 STS 316L 박막 합성에 관한 연구
    한국재료학회 이준희, 송요승, 이건환, 이구현, 이득용, 윤종구
    논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05
  • PVD의 종류와 특성, 응용분야
    다음과 같이 표현된다.② Small-surface sourcesSmall-surface source로부터 sourc시킬 수 있다.아래 그림은 저항열을 이용한 evaporation의 ... 가능하다.Multiple deposition이 가능하다. ... PVD [Physical Vapor Deposition] 란?드라이 플레이팅이라고도 한다.
    리포트 | 21페이지 | 2,500원 | 등록일 2015.01.08 | 수정일 2023.04.29
  • NOM fouling mechanisms in a hybrid adsorption/membrane system
    Experimental*2.1 Reagent, source waters, membranesDI water : Millipore Milli-Q,MA (stock solution 제조) ... NOM removal by pre-deposited HAOPs with varying surface loadings.3.1 Removal of DOC and UV254실험 종료 시 ... water.3.6 Treatment of seawater in hybrid systems담수에서 시행된 테스트 해수 적용 Bare 막(HAOPs층 X) : VSP ~1500 SLHAOP
    리포트 | 28페이지 | 3,000원 | 등록일 2014.05.16
  • [발광디스플레이실험] Photolithography
    특히 dry etching의 경우 ion 가속만을 이용하는 IBE(ion beam etching)나 sputtering과 같이 magnetron을 이용하는 sputtering etching이 ... 그림에서 보이는 거와 같이 dark field mask는 source/drain implant, LDD implant 그리고 contact부분을 etching 하는데 쓰이고 clear ... PR을 용제(solvent)에 녹이는 과정에서 PR 위에 deposition된 film은 제거되고 substrate 위에 deposition된 film 만이 남게 되는 것이다.Photolithography
    리포트 | 8페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14
  • [생화학실험]Peptide Mass Fingerprinting Ⅱ MALDI-TOF
    질량분석기는 ion source, mass analyzer, detector로 구성된다. ... Ion source에서는 sample을 이온화시키는데, ESI(Electrospraty ionization)와 MALDI가 일반적으로 사용된다. ... Analyzer에서는 m/z 비율에 따라 ion을 분리한다. 분석 타입에는 ion trap, time-of-flight, quadrupole, FT-MS 분석기 등이 있다.
    리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2014.08.23 | 수정일 2020.07.27
  • PVD
    필요 ( 열적 source 재료 : W, Mo, Ta 등 ) 위 금속들로 만들어진 박 또는 선을 적당한 형상으로 증발원을 만든다 . ... 재료가 직접 접촉하는 방식 저항 가열식 진공증착법 (Thermal- heating evaporation) 7구동원리 고융점의 filament, basket 또는 boat 등의 열적 source ... Electro plating Electroless -plating CVD APCVD LPCVD PECVD MOCVD Thermal Electron beam Molecualr beam Ion
    리포트 | 77페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24
  • 반도체공학-MOS diode설계 최종보고서
    과정은 앞의 리소그래피와 같다.⑦ diffusion 또는 ion-implantSource, Drain이 자동적으로 Gate를 patterning 한다. source, drain은 전극역할을 ... Metal deposition (sputter)5. ... 따라서 좀 더 특별한 클리닝(RCA1, RCA2)이 요구된다.⑤ Poly-Si deposition게이트 산화 막 위에 게이트 전극 역할을 할 poly-Si 을 CVD에 의해 증착한다
    리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.12.22
  • ETCHING
    •The second plasma source is connected to the first plasma source •The second plasma source has a second ... plasma source . 34 7. ... 하여 wafer 표면의 박막에 가스나 산과 알칼리 같은 화학 물질을 통해 필요 없는 부분을 제거하고 미세한 회로 패턴을 형성 시켜 주기 위해 가공하는 단계의 공정 Substrate Deposition
    리포트 | 56페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17
  • 진공 증착기를 이용한 Ohmic Contact 형성용 Metal 박막 증착 결보
    sputtering), 이온도금 (ion plating)의 3가지로 분류한다. ... 가능하다.- 단점 : X-ray 발생e-beam source 위에 원자의 농도가 크므로 와류 또는 discharge가 심하다.3) 보완점증착의 시작과 끝의 시간을 정확히 재고 불순물이 ... 박막형성 기술의 대표적 방법으로 CVD(Chemical Vapour Deposition), PVD(Physical Vapour Deposition)법 이 있으며 CVD법에 의한 박막
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.05.09
  • 아이템매니아 이벤트
  • 유니스터디 이벤트
AI 챗봇
2024년 09월 18일 수요일
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- 한국인의 가치관 중에서 정신적 가치관을 이루는 것들을 문화적 문법으로 정리하고, 현대한국사회에서 일어나는 사건과 사고를 비교하여 자신의 의견으로 기술하세요
- 작별인사 독후감
방송통신대학 관련 적절한 예)
- 국내의 사물인터넷 상용화 사례를 찾아보고, 앞으로 기업에 사물인터넷이 어떤 영향을 미칠지 기술하시오
5글자 이하 주제 부적절한 예)
- 정형외과, 아동학대