"RE sputtering" 검색결과 21-29 / 29건

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  The Boy with the Low IQ

  You're just not cut out for it, and for you to remain in high school would, in my opinion, be a waste ... Jobs were scarce in the town, but he managed to keep busy mowing the lawns of the householders and puttering ... This town's got no money for frills," said the selectman."

  시험자료 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.02.11

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  플라즈마 코팅

  http://pllab.snu.ac.kr http://psel.snu.ac.kr http://www.capst.re.kr http://www.naver.com참고 문헌 및 자료V플라즈마를 ... 플라즈마를 이용하여 직접 금형에 이질의 박막을 증착시키는 방법 - Magnetron Sputtering, Arc sputtering, Laser abliation 등의 PVD법 - ... Yong Eun :Diamond Like Carbon (1993) 최시영 : 박막공학의 기초 (2001) 이흥로 : 표면공학 (1998) 네이버 지식in http://www.kist.re.kr

  리포트 | 26페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.06.03

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  [공학]투명전극(TCO)

  산화물 타켓을 이용한 non-reactive sputtering으로 박막제조. ... 빛을 투과시켜 사람의 눈에 투명하게 보이는 동시에 전기전도도가 좋은 물리적 특성을 나타내는 재료TCO 종류종 류특 징구 분In2O3, ZnO, SnO2 등.Au, Ag, Cu, Re

  리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.04.03

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  박막 증착 방법의 종류

  ) 위에 증발 또는 sputtering을 사용하여 발생시킨 증기를 축적하여 필름을 성장 시키는 방법. ... CVD 보다 저온 공정이므로 CVD에 비해 불순물이 함유될 가능성이 높다.Referencehttp://icm.re.kr/board/skin/default/index.jsp? ... id=1107 tablename=forum_ematerial sn= ss=on sc=on http://bionano.hanyang.ac.kr/new/sub2/profile24.php

  리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.01.16

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  [표면분석] TOF-SIMS

  -일차이온빔의 균일성과 적절한 rastering-시료표면의 roughness-시료결정의 방향 및 결함-성분마다 다른 sputtering yield-일차이온과 시료 원자들의 mixing-일차이온의 ... 분결등-경사가 진 crater의 벽에서 방출되는 이온 의 영향-Ion gun에서 방출되는 중성원자의 영향-분자들의 질량간섭-Chamber내의 잘류하는 기체들-이차이온의 crater내 re-deposition-검출기의 ... (left) and RIE silicom(righ)나.

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2005.01.03

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  [반도체공정]Photo lithography

  특히 dry etching의 경우 ion 가속만을 이용하는 IBE(ion beam etching)나 sputtering과 같이 magnetron을 이용하는 sputtering etching이 ... 이런 스텝퍼 투영(projection) 시스템의 이점은 웨이퍼 전반에 걸친 표면 평탄도의 미소 변화에 대처하기 위해 재초점화(re-focusing)와 재정렬화(realignment) ... 웨이퍼의 노광은 스텝퍼(stepper)라 불리는 step and repeat 시스템에서 다이(die)마다 이루어진다.

  리포트 | 13페이지 | 2,000원 | 등록일 2004.07.22

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  [재료공학]electroluminescence (EL)

  /led/aboutled.htm www.kisti.re.kr/rnbd2/servlet/frame? ... 접합계면의 일함수 값의 적절한 균형이 유기 EL 발광소자는 carrier 주입형 발광소자이기 때문에 hetero 계면간 carrier 주입효율이 소자의 성능에 가장 큰 영향을 주는 요인 sputtering이나 ... 향후 개발동향5.EL의 시장동향및 향후 개발동향5.EL의 시장동향및 향후 개발동향6.Reperence유기 EL의 기술동향 및 시장전망 -김성원 (삼성 SDI 기술본부차장) www.smenergy.co.kr

  리포트 | 45페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.11.13

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  [플라즈마물리] 글로우 방전(Glow Discharge) 이론

  동시에 HCD도 GDS를 바탕으로 개발되어 radiation source로 서 응용이 되고 있다.최근에는 Atomsource 라 불리 우는 gas-jet enhanced sputtering ... 식으로 증가하는 전류와 전압관계를 나타내는 방전을 ‘abnormal’ GD라 한다.원자 분광 학에서 가장 자주 쓰이는 것이 바로 이 abnormal GD mode 인데, 이 지역에서 sputtering ... 당사가 동덕여대 김 효진 교수의 분석연구실과 수년간에 공동연구로 획득한 특허인 Gas-jet-boosted glow discharge cell는 Self-absorption과 시료의 re-deposition을

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.04.23

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  [재료, 기계재료] 금속복합재료

  피복재료로서는 주로 Ti, Cu, W, Re, Ta, Mo, Ni-Cr, W-Ti, NiAl, Wc, NiFeCr 등이 있으며 CVD나 sputtering 등의 방법을 써서 대개 0.5μm ... 두께 이내로 피복을 한다.(3) 방향강화 FRM(unidirectionally solidification eutection composite)공정합금의 일방향 응고로 얻어지는 복합재료이다

  리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.05.11

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