"UHV" 검색결과 21-40 / 58건

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  진공의_기초_최종

  나타남진공 속의 회전 Ferrofluid feed through HV(High Vacuum) 저온에서 사용된다진공 속의 회전 Magnetic Rotary Feed through UHV ... 생산성 10 -3 Torr 이상부터 사용 다양한 크기 고가Diffusion Pump systemDiffusion Pump system 장점 단점 간편 / 확실함 Oil 역류 가능성 UHV

  리포트 | 88페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.01.25

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  다이오드의 특성 (장점과 단점)

  .- 일본의 경우 UHV 송전 특별위원회는 10GW 송전시 600kM이상이면 경제성이 있는 것으로 보고하였다.(3) 교류계통을 직류계통을 통해서 연계하면, 단락용량을 증가시키지 않게

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.08.06 | 수정일 2013.12.17

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  반도체제작공정-박막증착공정

  Processing LaboratoryMolecular beam epitaxy박막 증착 공정evaporation at very low deposition rates typically in UHV

  리포트 | 25페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.09.09

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  XPS (x-ray photoelectron spectroscopy)

  ESCA) is a widely used technique to investigate the chemical composition of surfaces.Why does XPS need UHV

  리포트 | 19페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.12.09

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  이온펌프

  Required Contamination-Free Vibration-Free Ion Current Provides Pressure Indication Long Life at HV and UHV

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.06.12

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  박막제조기술

  sputteringPulsed laser depositionMolecular beam epitaxyevaporation at very low deposition rates typically in UHV

  리포트 | 24페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.03.25

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  AAS(atomic absorption spectroscopy), XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy)의 원리와 구성

  energy analyzer, HSA)과 원통형 거울 분석기(cylindrical mirror analyzer, CMA)를 들 수 있다.X선 발생기와 전자 에너지 분광계는 초고진공(UHV

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.01.22

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  [공학]진공의 기초

  분자들의 속도는 대부분 1000m/s이하임.펌프용량 : 수십~수천 L/sec왜 UHV (Ultrahigh vacuum)을 만들어야 하나? ... 초고진공 (Ultrahigh Vacuum; UHV) : 10-8torr 이하 사람에 따라서 중진공, 극고진공이라는 영역도 포함시키지만, 큰 의미는 없다. ... 인간이 만들 수 있는 최저 압력 : 1x10-13torr 우주의 압력 : 1x10-15torr 이하.초고진공 장비 : 보통 UHV Chamber 라고 부른다.

  리포트 | 45페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.11.20

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  MOS소자

  압력에 따라 : APCVD, LPCVD, UHV다.음극과 양극 사이에 plasma가 형성되고 Ar+가 음극의 target 에충돌하여 target의 원자를 나오게 한다.

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.07.04 | 수정일 2016.04.25

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  [재료 실험]xps 실험

  ))을 유지하도록 되어 있고 서로 연결된 4개의 chambers(시편도입용 chamber, 분석 chamber, UHV 시편준비 chamber, 촉매등의 reaction chamber ... 표면의 1-5 nm 깊이에서 방출된 photoelectrons만이 spectrometer까지 도착할 수 있다.옆의 사진에서 보는 XPS는 고진공(ultra-high vacuum (UHV

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.01

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  [공학기술](PPT)EDS

  Windowless : - 1970년대 초기에 개발 적용 - 분석 가능 원소 : Be (Z=4) - UHV AEM (~10-8 Pa) 에만 적용 가능EDS (Energy Dispersive

  리포트 | 26페이지 | 3,500원 | 등록일 2007.07.10

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  [재료공학실험]희생양극실험

  ))을 유지하도록 되어 있고 서로 연결된 4개의 chambers(시편도입용 chamber, 분석 chamber, UHV 시편준비 chamber, 촉매등의 reaction chamber ... 시편 표면의 1-5 nm 깊이에서 방출된photoelectrons만이 spectrometer까지 도착할 수 있다.사진에서 보는 XPS는 고진공(ultra-high vacuum (UHV

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.30

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  [공학]MBE(Molecular Beam Epitaxy)

  processDiagram of a typical MBE system growth chamberMBE System◈ Vacuum system : stainless-steel growth chamber, UHV

  리포트 | 24페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.05.29

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  [진공 펌프] 각종 진공펌프와 장단점

  장점 : 대단히 깨끗하다(UHV), 운영비용이 싸다, 실수에 안전, 보조 펌프의 불필요, 유지 보수비용이 싸다, TSP로이하, 장기간 운영, 스스로 조정한다, 작은 것에서부터 중간

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.07.19

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  No.22 진공 관련 강좌 자료 현황

  스테인레스 스틸의 outgassing과 UHV 시스템용 진공 펌프성원에드워드 부설 진공기술 연구소에서 발행한 간행물로서 현재 ‘반도체 장비 기술 교육 센터(SETEC)’의 진공 기술

  리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.11.28

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  성공적인 벤처기업사례

  반도체전공정과정에서 사용되는 ALD, LP CVD, MO CVD, PE CVD, UHV CVD장치뿐만 아니라 ETCH장치도 개발 완료하여 판매를 시작하였다.2002년에는 반도체 장치분야에서

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.03.20

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  Auger Electron Spectroscopy(AES)

  Concentric Hemispherical Analyzer CAE(Constant Analyzer Energy mode) CRR(Constant Retard Ratio) (3) UHV

  리포트 | 19페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.13

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  evaporator의 원리 및 이론

  Maxwell-Boltzman분포를 하고 있는 기체의 경우 직경의 ' 크기2 '에 반비례압력영역 구분1기압 760 Torr저진공 1×10 -3 Torr고진공 1×10 -6 Torr초고진공(UHV

  리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.24

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  xps 발표

  X-ray Photoelectron Spectroscopyxps 의 이론 및 원리 (1) UHV(Ultra High Vaccum ) 중에 위치한 시료 표면에 특성 X-ray 를 조사하여

  리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.04.13

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  EDS (EDX or EDAX)

  재질 : polymer, diamond, BN, SiN 등EDS검출기의 WindowWindowless - 1970년대 초기에 개발 적용 - 분석 가능 원소 : Be (Z=4) - UHV

  리포트 | 28페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.06.09

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