"catalytic chemical vapor deposition" 검색결과 21-40 / 619건

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  반도체 기본 공정

  )화학적 기상증착방법(CVD, Chemical Vapor Deposition)방법가열이나 전자빔, 아르곤 가스를 이용한 플라즈마로 증착 (화학반응을 수반하지 않음)가스의 화학반응으로 ... 박막증착 공정은 웨이퍼에 1㎛ 이하의 얇은 막을 입히는 공정이다.박막공정은 크게 두 가지로 나뉘며 그 특징은 아래와 같다.물리적 기상증착방법(PVD, Physical Vapor Deposition ... 단점1) 비교적 정확성이 안 좋다.2) 웨이퍼 오염 위험1) 고비용, 어려c)?

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.12.06 | 수정일 2021.06.25

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  Investigation of the effect of catalyst type, concentration, and growth time on carbon nanotube morphology and structure

  한국탄소학회 Hazal Gergeroglu, Mehmet Faruk Ebeoglugil

  논문 | 15페이지 | 4,800원 | 등록일 2023.05.22

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  Bias process for heteroepitaxial diamond nucleation on Ir substrates

  한국탄소학회 Weihua Wang, Shilin Yang, Benjian Liu, Xiaobin Hao, Jiecai Han, Bing Dai, Jiaqi Zhu

  논문 | 14페이지 | 4,600원 | 등록일 2023.05.22

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  TaCl5-C3H6-H2 계에서 TaC CVD 공정의 열역학 해석

  한국재료학회 김현미, 최균, 심광보, 조남춘, 박종규

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.04.05 | 수정일 2023.04.06

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  반도체공정 기말정리

  Vapor Deposition)화학적 물질을 증발시켜 웨이퍼 표면에 붙고 표면에서 화학물질들이 반응을 해서 증착하는 공정으로 4가지 방법이 있다.1) Atmospheric ? ... 기화시킴으로써 원자상태로 만들고 이 vapor를 기판표면에 옮겨 박막을 형성한다. ... 박막의 Step coverage가 좋지 못하다.

  리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.10.22 | 수정일 2024.04.30

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  [신소재공학][기계구조재료] SiC fiber 코팅기술 관련 논문에 대한 문제

  Since the process temperature (600℃) is lower than chemical vapor deposition(900~1000℃), the strength ... Therefore, prevention from fiber degradation during coating process and controlling coating thickness ... and toughness could be preserved.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.11.11

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  [시험자료] 반도체공정및응용 중간고사 정리 (족보)

  Vapor Deposition, CVD)(4) ? ... 저압 할로겐이 풍부한 환경에서 RF 에너지가 기판에 적용되면, material can be removed by both chemical means and ion bombardment ... Photolithography에서 vapor prime은 왜 사용하며, 가장 많이 사용되는 소재를 하나 쓰세요.?

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.10.20 | 수정일 2019.12.02

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  반도체 - CVD, PVD

  Zirconia) 박막 제조 (김기동 외 5명)내용PECVD (plasma enhanced chemical vapor depostion)을 이용하여 yttria-stabilized ... 97 %장점Mild coating process, no damage to emitter or interfacesHigh dynamic deposition rates for both ... up to M4- Chamber and tray design to minimize parasitic deposition- Tray return system under clean atmosphere8000

  리포트 | 18페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.01.28

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  In-situ magnetization measurements and ex-situ morphological analysis of electrodeposited cobalt onto chemical vapor deposition graphene/SiO2/Si

  한국탄소학회 Vinícius C. De Franco, Gustavo M. B. Castro, Jeaneth Corredor, Daniel Mendes, João E.

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.04.05

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  [소자및공정 에리카 A+] CMOS Inverter Mask design Project

  산화막 위에CVD(Chemical Vapor Deposition) 로 질화막을 증착시킨다. ... Oxide 형성 후 평탄화 과정을 거치고 metal1과 연결하기 위한 Via contact mask를 사용하여 Via contact hole를 만든다.

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.05.14 | 수정일 2020.08.26

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  [A+레포트] Chemical Vapor Deposition을 이용한 GaN LED 반응기 설계 - 열전달 및 물질전달

  Chemical Vapor Deposition을 이용한GaN LED 증착속도 및 반응기 설계목 차1. 서론 12. GaN 공정 Mechanism 및 반응조건 33. ... Somnitz, C. ... Drew, C.E. Jenkins, D.A.

  리포트 | 19페이지 | 3,500원 | 등록일 2021.01.12 | 수정일 2021.01.17

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  IGZO 산화물 TFT 문제현황 및 개선방안 연구결과 보고서(디스플레이)

  우선 3가지의 주요기술에 대한 설명을 하겠다.①PECVD(Plasma enhanced chemical vapor deposition): 플라즈마를 이용하여 원하는 물질을 기판에 증착시키는 ... 원하는 물질은 기판에 고르게 쌓이고 나머지 이온들도 서로 결합되어 기체상태로 배출되게 된다.②Sputtering:PVD(physical vapor deposition) - 화학반응이 ... .** 현재 10cm2/Vs 속도 제품 상용화.

  리포트 | 14페이지 | 5,500원 | 등록일 2020.12.15 | 수정일 2020.12.16

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  [냉동공조에너지실험]태양광 발전기

  metallorganic chemical vapor deposition(MOCVD) 등의 방법이 사용되어 10%이상의 효율이 입증되었다. ... 몰리브덴(Mo) 으로 코팅된 유리기판 위에 p-type 반도체인 CIS층을 증착하고 그 위에 n-type CdS를 주로 화학적 용액성장법 (chemical bath deposition ... 현재까 지 다양한 방법, 즉 근접승화법(Closed-Spaced Sublimation, CSS), 진 공증착법, 전착법, screen printing, spray pyrolysis,

  리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2020.05.09 | 수정일 2020.08.12

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  CNT 이론적 배경 및 물성

  실험 목적VCNT(Vertically aligned CNT)를 알고 VCNT를 합성하는 방법에 대한 기초지식(Chemical vapor deposition, E-beam evaporator ... deposition, Spin coating)을 이해한 후 VCNT를 합성해본다.2. ... 간단하게 요약하면 바닥-성장모델은 촉매가 기판에 붙어있는 상태에서 탄소나노튜브가 자라게 되는 모델이다.(4) E- beam evaporator deposition전자빔 증착은 물리적

  리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.06.10

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  숭실대 고분자 디바이스 예비레포트

  vapor deposition, CVD)을 이용해서 대면적으로 2D 그래핀 필름을 성장시키는 방법과 용액상에서 흑연으로부터 한 장의 나노 그래핀을 박리시키는 방법들이 제안되었다. ... 나노 그래핀 소재가 균일하고 안정적으로 분산되어 있는 분산액(homogeneous colloidal suspension)을 만들게 되면 소재의 대량 합성 가능,공정성 확보, 여러 형태로의 ... oxide, GO) 형태로 만든 후, 이를 환원시켜 환원 GO (reduced GO, RGO)로 변형시키는 방식이 일반적이다.그래핀 소재의 대량 합성이 필요했기 때문에 화학 증착법(chemical

  리포트 | 4페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.05.17

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  그래핀 특성, 합성, 활용

  Graphene’s Synthesis그래핀의 합성 공정에는 물리/화학적 박리법(Exfoliation), 화학증기 증착법(Chemical Vapor Deposition), 에피택셜 성장법 ... 일반적인 반도체는 valence band와 conduction band가 band gap을 갖고 떨어져 있어서 외부에서 영향을 주러 insulator와 conductor 사이를 이동하게

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.04.29 | 수정일 2021.05.24

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  LED의 재료와 제조공정에 대한 레포트

  Vapour Deposition) 장치03 LED 제조공정 MOCVD 장치03 LED 제조공정 MOCVD 장치03 LED 제조공정 MOCVD 장치03 LED 제조공정 버퍼층 사파이어 ... 플립칩형 LED : Au 범프를 서브마운트의 금속 패드에 접착하는 방식03 LED 제조공정 배선 : [ 그림 3-54] (b)03 LED 제조공정 봉지재 도포 : [ 그림 3-54] (c) ... 제조공정 박막 공정 LED 의 핵심인 P-N 접합을 만드는 공정 화합물 반도체 층은 대부분 MOCVD 장치를 이용해서 형성03 LED 제조공정 MOCVD(Metal Organic Chemical

  리포트 | 73페이지 | 2,500원 | 등록일 2020.09.08

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  인하대 공업화학실험Patterning and treatment of SiO2 thin film A+ 예비보고서

  vapor Deposition: 웨이퍼 위에 원하는 박막을 입히는 과정이다. ... 박막공정(deposition)위 과정에서 만들어진 웨이퍼는 부도체 상태이다. ... Implantation(이온주입공정): 반도체가 전기적 특성을 가지기 위해 이온을 목표물의 표면을 뚫고들어갈 만큼 큰 에너지를 갖도록 전기장으로 가속하여 목표물 속으로 넣어주는 공정.2-3 Chemical

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.11.27

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  [태양전지실험] Study of Organic and Inorganic Solar Cells

  Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) PAGull lines). ... Non-ideal components are shown by the dotted line.The corresponding I-V characteristic is described by ... (100mW/cm2).

  리포트 | 40페이지 | 30,000원 | 등록일 2020.11.16

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  전기 전자 통신 IT 영어 용어 단어장(통번역, 연구, 논문 작성용)

  ; Constant Voltage Constant Frequency정전압 정주파 전원전기전자/통신CVD; Chemical Vapor Deposition method화학 기상 성장법전기전자 ... /통신curie temperature퀴리온도전기전자/통신curl회전전기전자/통신current capacity전류용량전기전자/통신current density전류밀도전기전자/통신current ... doubler배 전류기전기전자/통신current intensity전류의 세기전기전자/통신current ratio변류비전기전자/통신current relay전류계전기전기전자/통신current

  리포트 | 21페이지 | 30,000원 | 등록일 2023.01.21

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