"catalytic chemical vapour deposition" 검색결과 21-36 / 36건

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  박막의증착

  박막형성 기술의 대표적 방법으로 CVD(Chemical Vapour Deposition), PVD(Physical Vapour Deposition)법 이 있으며 CVD법에 의한 박막 ... CVD(Chemical Vapor Deposition)3.1 CVDCVD과정 중 표면에서의 반응 및 이동보통의 CVD 공정에서는, 상온의 반응기체가 reaction chamber안으로 ... Torr)의 반응용기 내에 단순한 열에너지에 의한 화학반응을 이용하여박막을 증착하는 방법* LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition)저압(

  리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.12.26

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  저온다결정실리콘

  아몰퍼스 실리콘막은 300℃ 이하의 저온 CVD(Chemical Vapour Deposition)를 통해 형성된다. ... 같은 환경에서 시간 경과에 따른 아몰퍼스 실리콘막 표면의 자연 산화막의 두께를 스시킬 필요는 없으며 원래의 아몰퍼스 실리콘 표면에서 40Å 까지 산소원자 농도가 3×1020 원자/cm3 ... a-Si는 175도씨 Al/a-Si은 각 300도씨에서 결정화된다고 알려져 있다 그러나 위와 같은 구조는 a-Si 박막이 금속과 silcide 또는 alloy를 형성하여 트랜지스터의 channel로

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.08.17

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  열처리 및 경도 시험

  CVD와 DVD-CVD(Chemical Vapour Deposition) : 화학적 증착법-DVD(Physical Vapour Deposition) : 물리적 증착법(2) 물리적 표면경화법강 ... 경도까지의 깊이(측정곤란)-실용경화층 깊이(ND-P) : 모재 경도보다 Hv 50이 높은 경도의 점까지 깊이-표면경도 : 전체 경화층 깊이의 크기에 따라 경도시험을 분류하여 실시c)

  리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.06.03

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  나노구조의 합성 방법에 관한 조사

  (a) Schematics illustrating the underlying concept for catalytic growth of NWs. ... 수 있는데, 이 방법을 ‘레 이저를 이용한 촉매 성장방법(laser assisted catalytic growth, LGC)'이라고 한다. ... 자기촉매(self-catalytic) VLS 방법VLS 방법으로 두 성분 이상으로 구성된 헤테로 나노와이어를 만들 수 있기 때문에 이 중 한 성분을 VLS촉매로 이용할 수 있다.

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.12.09

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  epitaxy 공정

  vapour deposition), 액상 에피택시(LPE : liguid phase epitaxy), 분자빔 에피택시(MBE : molecular beam epitaxy) 등에 관한 ... 비소의 에피택시 성장에 관한 4가지 방법 즉, 기상 에피택시(VPE : vapor phase epitaxy), 금속 유기물 화학 기상 증착(MOCVD : metal-organic chemical ... 이를 방지하기 위하여 기판은 Fig 10 (b)나 (c)와 같이 용액 아래에서 용액과 접촉이 이루어지도록 하고 있다.

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.06.21

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  [반도체]CVD 화학증착

  Vapour Deposition), PVD(Physical Vapour Deposition)법 이 있으며 CVD법에 의한 박막 형성은 PVD법에 비하여 고속입자의 기여가 적기 때문에 ... 되었고, 기능성으로서 경도, 내부식성, 열전도성이 요구되거나 전기적, 광학적 성질을 중요시하는 경우가 첨단산업 기술면에 크게 부각되고 있다.박막형성 기술의 대표적 방법으로 CVD(Chemical ... CVD(화학증착)는 Pack cementation, Thermal CVD, 플라즈마 CVD로 크게 나눌 수 있다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.26

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  [공학] 건식도금에 대하여 CVD와 PVD

  건식도금에 대하여건식도금은 CVD(chemical vapor deposition)과 PVD(physical vapor deposition)으루 크게 분류할 수 있다. ... PVD(물리적 기상도금)물리적 기상도금(physical vapor deposition)은 화학적 기상도금(chemical vapor deposition)과 구별하기 위한 명칭이며, ... CVD(화학적 기상도금)CVD(chemical vapor deposition) 화학증착(化學蒸着) 또는 그대로 기상도금(氣相鍍金)이라고도 한다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.01

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  [재료공학실험] 진공과 pvd, cvd

  박막형성 기술의 대표적 방법으로 CVD(Chemical Vapour Deposition), PVD(Physical Vapour Deposition)법 이 있으며 CVD법에 의한 박 ... PVD (Physical Vapor Deposition). 물리기상증착 방법. ... vapor deposition), 플라즈마 공정, 네온사인 등이 이 영역의 진공대에서 운용되고 있다..

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.15

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  [코팅 도금] CVD & PVD

  PVD(물리적 기상도금)물리적 기상도금(physical vapor deposition)은 화학적 기상도금(chemical vapor deposition)과 구별하기 위한 명칭이며, ... 기상코팅의 하나인 방법으로의 CVD는 Chemical Vapor Deposition의 약자로 기상에서 고상을 석출하는 과정으로 화학적 증착법이 라고 불리는 방법이며, 진공증착, 스파터링 ... 대개 cold trap에 의한 제거. 흡수나 scrabber(가스세정기)등을 통 해서 수세 중화 등을 하게 된다.8.

  리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.05.29

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  [건축재료] 반사유리의 특성 및 제조공법

  가시광선 투과율..PAGE:7제조공법기상법화학적 코팅법(CVD : Chemical Vapour Deposition)열분해법이온교환법무전해도금법물리적(PVD : Physical Vapour ... Deposition)코팅진공증착법이온 스파터링법졸겔공법..PAGE:8열분해법Hard coating판유리제조과정370~ 650℃ 의유리표면유기금속 물질Spray금속성 분자상태 물질피막형성한글라스 ... 방출과 그 원자의substrate에의 부착이라는 2가지 과정을 포함하는 개념으로 볼 수 있다.Sputtering process의 가장 우수한 특성은 증착된 물질의 기상으로의 이동이chemical

  리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.06.21

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  [자연과학]탄소나노튜브와 연료전지의 접합

  전기방전법으로 합성한 탄소나노튜브의 정제후 TEM 이미지(2) 촉매화학 기상증착법(Catalytic Chemical Vapor Deposition)고품질 SWNTs를 생산하는 방법으로 ... 촉매 화학 기상증착법의 분류 고품질의 CNT합성을 위하여 사용된 catalytic CVD장치의 개략도(3) 기상합성법(Vapor phase growth)과 유기화합물의 열분해법기존의 ... 반면에 촉매 화학 기상증착법(Catalystic Chemical vapor depostion)은 산업 스케일에서 값싼 가격으로 SWNT, DWNT, MWNT합성을 하는데 매우 유용하다

  리포트 | 35페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.11.21

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  [광전자 공학] wafer의 결장 성장 방법

  ) 공정에 비해 종횡비가 큰 contact hole을 잘 메울 수 있는 CVD (chemical vapor deposition) 공정의 장점들을 동시에 가지고 있다. ... 현재 위와같은 배경에 의해 MOCVD (metal-organic chemical vapor deposition)이 중요한 금속화공정 기술로서 인식되어지고 있으며 기술 개발을 위한 많은 ... 금속 유기물 화학 기상증착(MOCVD : metal-organic chemical vapor deposition)반도체 소자의 초고집적화로 인하여 반도체공정들 중에서 금속화공정(metallization

  리포트 | 13페이지 | 2,000원 | 등록일 2002.12.06

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  반도체 제조 공정

  박막형성 기술의 대표적 방법으로 CVD(Chemical Vapour Deposition), PVD(Physical Vapour Deposition)법 이 있으며 CVD법에 의한 박막 ... 일반적으로 CVD의 현재 적용은 구조상 합성술의 강화를 위한 coated particles, extened-surface coating, vapor-formed free-standing

  리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2003.04.19

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  [금속] cvd와 pvd

  건식도금은 CVD(chemical vapor deposition)과 PVD(physical vapor deposition)으루 크게 분류할 수 있다. ... PVD(물리적 기상도금)물리적 기상도금(physical vapor deposition)은 화학적 기상도금(chemical vapor deposition)과 구별하기 위한 명칭이며, ... CVD(화학적 기상도금)CVD(chemical vapor deposition) 화학증착(化學蒸着) 또는 그대로 기상도금(氣相鍍金)이라고도 한다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2001.12.06

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  박막화기술

  Vapour Deposition (CVD)CVD는 박막재료의 할로겐화물, 유화물, 수소화물등을 고온중에서 열분해, 산화, 환원, 증합 또는 기상화합반응시키는 도중 박막조성을 기판상에 ... 목적으로 증발입자를 이온화하고 전계로서 가속화하면서 기판에 부착시키는 방법으로 1973년 Matto 가 제안한 것이다.이 경우 증발입자는 플라즈마중을 통과시켜서 이온화하는 것이다.Chemical ... (3) 화학반응을 이용하는 3가지 방법으로 대별할 수 있다.(1)의 방법은 가열하는 방법에 따라서 저항가열법, EB법, 레이저법 등으로 나눈다.(2)의 방법은 sputter법이나 cluster

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2000.09.23

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  초전도재료의 박막화

  Vapour Deposition (CVD)CVD는 박막재료의 할로겐화물, 유화물, 수소화물등을 고온중에서 열분해, 산화, 환원, 증합 또 는 기상화합반응시키는 도중 박막조성을 기판상에 ... 목적으로 증발입자를 이온화하고 전계 로서 가속화하면서 기판에 부착시키는 방법으로 1973년 Matto 가 제안한 것이다.이 경우 증발입자는 플라즈마중을 통과시켜서 이온화하는 것이다.Chemical ... (3) 화학반응을 이용하는 3가지 방법으로 대별할 수 있다.(1)의 방법은 가열하는 방법에 따라서 저항가열법, EB법, 레이저법 등으로 나눈다.(2)의 방법은 sputter법이나 cluster

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2000.10.08

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